ファブフロアでは、300 mmウェハがライン上に置かれ、フォトレジストのプロファイルを固定するソフトベイクを待っている。ホットプレートの温度がわずかにでもずれると、ライン幅制御が乱れ、ロット全体がスクラップになる可能性がある。そこで、XRD加熱ランプを開発し、その変動要因を排除した。
技術的に重要なポイント
ランプは短波長赤外線をクォーツハロゲン素子で発生させ、熱を必要な箇所に直接供給する。ウェハ全体の温度均一性は±0.1℃以内に保たれ、設定温度の再現性も連続稼働後も厳密に維持される。Class 1–100クリーンルーム内で使用され、稼働中の粒子発生は0.1個/cm³未満に抑えられている。出力は5,000時間以上の稼働でも安定し、強度のドリフトは5%未満である。
リソグラフィでの効果
ソフトベイクは溶剤を除去し、膜の応力を設定する工程である。ハードベイクはエッチングやイオン注入に耐える硬化プロファイルを固定する。これらのランプは迅速に温度に到達し、ベイク時間を短縮し、熱負荷を低減する。結果として、クリティカルディメンションの安定した制御が可能となり、手戻りの削減とウェハあたりのエネルギー消費の低減につながる。 また、洗浄後のウェハ乾燥時にも同様の温度制御が再凝縮やウォーターマークの発生を防ぎ、歩留まりを維持する。
注意点
フットプリントはコンパクトで多くのトラックおよびコーターのモジュールに組み込み可能だが、統合には注意が必要である。光学経路のクリアランスを確認し、電源の安定性を確保し、揮発性物質の排気経路を検証すること。 設定温度到達までに短時間のウォームアップが必要なため、ベイクレシピはその立ち上がり時間を考慮して計画する。アライメントとキャリブレーションが最適化されれば、追加の複雑さを伴わずにプロセスウィンドウが拡大する。