IR加熱と熱風加熱：ウェーハの硬化処理にかかる時間の無駄をなくそう
もし今も半導体製造において熱風循環方式を利用しているのであれば、それは時間との戦いに負けているに等しい。
問題は、空気は熱を伝えるのが非常に下手だということです。強制対流を利用する場合、まず空気を加熱し、その後チャンバーを加熱し、最終的にウェーハを加熱します。これは非常に遅いプロセスです。このような遅延が生産効率を低下させてしまいます。
中間過程を省く
だからこそ、私たちはIRランプを使用します。空気が温まるのを待つ代わりに、IRランプは電磁波を直接ウェーハ表面に送り届けます。これにより、瞬時に加熱が行われます。また、専用の反射器を使ってエネルギーを正確にウェーハに集中させることで、機械自体が無駄に加熱されることはありません。数秒で所定の温度に到達します。待つ時間がなくなれば、1時間あたりの生産量も上がります。
鍵は反射器にある
本当の魔法は反射器の設計にあります。安価な反射器を使うと、エネルギーの半分が無駄になってしまいます。私たちは高反射率のコーティングを使用して、すべての光子をウェーハに戻すようにしています。これにより、均一な加熱が実現し、何よりもウェーハが変形することがありません。
注意点
もちろん、これは魔法の杖ではありません。何かしらの犠牲が伴います。高密度のIRランプは非常に高温になります。もし反射器が少しでも正常でない場合や、冷却ファンがその負荷に対応できない場合、ランプやケースが壊れてしまう可能性があります。そのため、強力なパワーと、それを扱える冷却システムのバランスをうまく取る必要があります。
実際の現場での効果
対流加熱の遅さに悩んでいる人にとって、IR加熱は最適な選択肢です。これにより、硬化処理にかかる時間が短縮され、空気を使った場合に発生する「時間の浪費」がなくなります。接続を行い、反射器を調整すれば、処理時間が大幅に短縮されます。