ファブの現場において、酸化炉の熱管理が、ウエハ全体のゲート酸化膜の品質を決定します。わずか1℃の温度変動だけで、良品であったウエハが廃棄物になってしまいます。私たちは、このような変動を排除するために、特別なウエハ酸化用ヒーターを開発しました。
技術的な観点から重要なのは何か 設計の核心は、石英ハロゲンランプアレイです。これにより、短波長のエネルギーが直接ウエハに与えられ、処理領域全体で±0.1℃という高い温度均一性が実現されます。
10nm以下のノードでは、この点は絶対に妥協できません。フォトレジストの厚みやエッチングの選択性は、ソフトベイクやハードベイクの精度に依存しています。このヒーターによって、24時間365日、安定した性能が維持され、粒子の発生もありません。これは、クラス1のクリーンルーム環境下で確認済みです。
なぜ生産現場で効果的か これにより、リソグラフィーやエッチングにおける歩留まりの問題が解決されます。温度分布が一定で再現可能であれば、ハードベイク後もフォトレジストの厚みが均一に保たれ、エッチング時にスカムや線端の粗さが発生しなくなります。
その結果、再工程が減少し、1マスクあたりのウエハの量が増えます。また、エネルギー効率も向上し、スループットを落とすことなく運営コストを削減できます。
準備が必要なこと このヒーターは既存の炉に搭載可能ですが、適切に機能させるためには専用の電源装置や制御インターフェースが必要です。短波長の特性は迅速な熱処理に適していますが、ウエハとの位置合わせは正確でなければなりません。位置合わせが不正確だと、局所的な過熱が発生します。
私たちは、お客様の具体的な処理条件に合わせて、現場でテストを行い、一連の工程で同じ性能が得られるようにしています。