在晶圆厂车间，一片300 mm晶圆置于生产线上，等待进行软烘烤以固定光刻胶的形貌。如果热板温度稍有偏移，线宽控制就会失准，整批产品可能报废。我们设计了XRD加热灯，以消除这种温度波动的影响。
技术要点
该加热灯采用短波红外石英卤素元件，直接在所需区域传递热量。晶圆上的温度均匀性控制在±0.1°C，设定点重复性在多次运行中保持稳定。灯具置于Class 1–100级洁净室内，运行过程中颗粒产生低于0.1颗粒/cm³。输出功率在超过5,000小时的使用寿命中保持稳定，强度漂移小于5%。
该方案在光刻工艺中的适用性
软烘烤阶段用于驱除溶剂并设定薄膜应力；硬烘烤则固定固化后的形貌以备蚀刻和注入。此加热灯升温迅速，缩短烘烤时间，同时保持热预算的清洁。其效果是关键尺寸的一致性提高，返工减少，且每片晶圆的能耗降低。
在晶圆清洗后干燥时，同样的温度控制可防止再冷凝和水痕出现，从而保持良率稳定。
使用注意事项
该灯具体积紧凑，可直接安装于大多数track和coater模块，但集成时仍需注意。需检查光路通畅，确保电源稳定，以及确认挥发物的排气路径。
加热灯有短暂的升温时间达到设定点，需围绕该升温曲线规划烘烤配方。校准和对准完成后，工艺窗口将拓宽，且不增加额外复杂度。