Mengapa kita beralih ke metode pengeringan menggunakan sinar inframerah di pabrik wafer Beralih dari metode pengeringan berbasis pelarut ke metode...

Pemanasan IR vs. Udara Panas: Hentikan Pemborosan Waktu dalam Proses Pengeringan Wafer Jika Anda masih menggunakan sistem pemanasan berbasis udara...

Cara yang Tepat untuk Mengeringkan Wafer MEMS Saat memproduksi sensor MEMS, menghilangkan kelembapan merupakan hal yang sulit dilakukan. Wafer perlu...

Berhentilah memanaskan peralatan Anda (dan mulailah memanaskan wafer tersebut saja). Jika Anda pernah menggunakan metode pemanasan resistif biasa,...

Hentikan Pemanasan Berlebih pada Alat-Alat Anda Pernahkah Anda memperhatikan bagaimana cara pemanasan menggunakan sinar inframerah biasa justru...

Mengamankan Proses Pemanasan Wafer di Zona Berbahaya Sejujurnya, memanaskan wafer di zona pembersihan kimia sama saja dengan bermain dengan api....

Pada lini produksi berukuran 300 mm, sisa fluks setelah proses pembentukan “bump” pada wafer bukan sekadar kontaminan biasa. Sisa fluks tersebut...

Dalam proses pengolahan wafer SiC, wafer tersebut tidak cocok digunakan dengan pemanas biasa. Proses pemanggangan, pengeringan, dan pengerasan...

Di lingkungan produksi, parameter termal dari furnace oksidasi menentukan tingkat integritas lapisan oksida pada seluruh permukaan wafer. Perubahan...

Di lantai fab, soft bake pada 110°C dengan drift ±1,5°C bukan sekadar parameter—itu adalah potensi kebocoran hasil produksi yang siap terjadi....