Di lingkungan produksi, parameter termal dari furnace oksidasi menentukan tingkat integritas lapisan oksida pada seluruh permukaan wafer. Perubahan suhu sebesar 1°C saja sudah cukup untuk mengubah wafer yang berkualitas menjadi bahan limbah. Kami merancang elemen pemanas untuk proses oksidasi wafer sedemikian rupa sehingga variasi suhu tersebut dapat dihilangkan.
Yang penting secara teknis: Inti dari desain ini adalah arry lampu halogen kuarsa yang mampu menghasilkan energi gelombang pendek yang langsung masuk ke dalam wafer. Dengan demikian, keseragaman suhu dapat dicapai hingga ±0,1°C di seluruh area proses. Pada node berukuran sub-10nm, hal ini sangat penting. Kualitas fotoresist dan tingkat selektivitas proses etching sangat bergantung pada ketepatan proses pemanasan tersebut. Elemen pemanas ini mampu mempertahankan stabilitas suhu tersebut secara konstan, 24/7, tanpa adanya partikel tambahan, sesuai dengan standar ruang bersih kelas 1.
Mengapa elemen ini efektif dalam produksi: Elemen ini membantu mengatasi masalah yang terkait dengan proses litografi dan etching. Ketika profil suhu tetap konsisten dan dapat direplikasi, ketebalan lapisan fotoresist akan tetap seragam setelah proses pemanasan. Dengan demikian, tidak akan ada masalah seperti kerutan atau ketidakteraturan pada garis-garis permukaan wafer saat proses etching dilakukan. Akibatnya, jumlah wafer yang dihasilkan per mask meningkat, dan efisiensi penggunaan energi pun meningkat, sehingga biaya operasional berkurang tanpa mengurangi kecepatan produksi.
Apa yang perlu dipersiapkan: Elemen ini dapat digunakan pada platform furnace yang sudah ada, tetapi diperlukan sumber daya listrik dan antarmuka kontrol khusus agar dapat berfungsi dengan baik. Profil gelombang pendek sangat ideal untuk proses pemanasan yang cepat, tetapi penyetelan posisi elemen pemanas terhadap wafer harus tepat—kesalahan penyetelan akan menyebabkan adanya titik panas lokal. Kami melakukan validasi di lapangan agar profil termal sesuai dengan resep proses yang ditentukan, sehingga kinerja elemen pemanas tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya.