Поток испарения для выпуклостей на пластинке
На линиях обработки пластин диаметром 300 мм остатки флюкса после формирования выступов на поверхности пластины представляют собой не просто источник...
Лампа для нагрева при обработке пластин из SiC
При обработке пластин из СиЛиС они плохо справляются с обычными нагревательными устройствами. Для процедур мягкой и твердой обработки, а также для...
Элемент нагрева для оксидации ваферов
На производственной площадке температурный режим в печи для оксидации определяет критерии качества оксидного слоя на всей площади кристалла. Даже...
Производитель сушилок для пластин в Китае
На производственном участке мягкий прогрев при 110°C с отклонением ±1,5°C — это не просто параметр, а потенциальная точка потерь выхода продукции....