
Di ruang produksi, oven pemanggang yang digunakan selalu beroperasi secara terus-menerus. Namun, hambatan utama yang muncul biasanya berasal dari lampu pemanas yang ada di dalam alat analisis termal tersebut. Perbedaan suhu sebesar 2°C pada output lampu selama proses pemanggangan fotoresist sudah cukup untuk menyebabkan perubahan dimensi kritis pada permukaan wafer hingga beberapa nanometer—dan itulah saatnya proses produksi harus dihentikan. Kami merancang lampu pemanas untuk alat analisis termal ini agar ketidakpastian tersebut dapat dihilangkan.
Yang penting secara teknis: Lampu ini menggunakan energi gelombang pendek inframerah dekat (NIR), dengan lapisan kuarsa yang berfungsi untuk memastikan transfer panas yang cepat dan efisien. Lampu ini dirancang untuk beroperasi pada rentang suhu 300–600°C, dan mampu menjaga kestabilan suhu di seluruh area pemanggangan hingga ±0,1°C. Daya listrik masuk melalui konektor berkualitas tinggi yang cocok untuk digunakan pada berbagai jenis chamber analis, sehingga peralatan tidak akan rusak.
Kami menyesuaikan bentuk filamen dan jalur pantulan cahaya agar gradien suhu menjadi lebih rendah, sehingga suhu di bagian tengah dan tepi wafer tetap stabil sesuai spesifikasi proses. Dengan demikian, tidak akan ada kejutan, dan suhu yang dihasilkan akan tetap konsisten.
Mengapa lampu ini cocok digunakan dalam proses litografi: Dalam proses litografi, langkah pemanggangan fotoresist sangat penting untuk membentuk profil yang diinginkan. Kestabilan suhu merupakan faktor kunci untuk mengontrol ukuran komponen elektronik dan meningkatkan tingkat produksi. Lampu ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel apa pun di area panas—sehingga jumlah cacat pada wafer tetap terkendali.
Lampu ini dapat beroperasi secara terus-menerus selama lebih dari 5.000 jam, dengan penurunan intensitas cahaya kurang dari 5%. Dengan demikian, penggantian lampu menjadi jarang dilakukan, waktu henti produksi berkurang, dan profil suhu tetap stabil dari satu wafer ke wafer lainnya.
Hal-hal yang perlu diperhatikan saat merencanakan penggunaannya: Lampu ini membutuhkan sumber daya listrik yang sesuai, beserta kontrol arus yang tepat. Jika Anda ingin memodifikasi alat analisis yang sudah ada, diperlukan penyesuaian kecil pada komponen mekanisnya. Untuk mendapatkan kinerja yang optimal, emisi cahaya dari chamber harus dikendalikan, dan lampu perlu dikalibrasi secara berkala.
Pastikan penyesuaian posisi lampu dilakukan sesuai prosedur operasional standar yang berlaku.