Hören Sie auf, Ihre Ausrüstung zu erhitzen – und heizen Sie stattdessen die Wafer.
Wenn Sie bereits einmal eine herkömmliche Widerstandsheizung verwendet haben, kennen Sie das Problem: Man versucht, die Wafer zu erhitzen – doch stattdessen wird der gesamte Innenraum der Anlage erhitzt. Das ist ein Verschwenderischer Einsatz von Energie – und außerdem sehr lästig. Niemand möchte es mit Ausrüstungsbauteilen zu tun haben, die bei Berührung gefährlich heiß werden.
Wir haben herausgefunden, dass es eine bessere Lösung gibt. Anstatt die ganze Luft um das Teil herum zu erhitzen, verwenden wir direkte Infrarotlampen.
Der Trick ist folgender: Diese Lampen strahlen elektromagnetische Strahlung direkt auf die Wafer ab. Da es sich um Kurzwellen-Infrarotstrahlung handelt, ignoriert die Energie die umliegende Luft und gelangt direkt ins Material. Das Ergebnis? Die Wafer erhält die benötigte Wärme – während die Außenhülle der Maschine kalt bleibt.
Die technischen Details
Wir verwenden hier kein billiges Glas. Die Lampen sind in hochdichtem Quarz eingehüllt, damit sie nicht zerbrechen, wenn die Temperatur schnell angepasst wird.
Um die Effizienz noch weiter zu steigern, passen wir die Brennweite der Lampen an und fügen einen reflektierenden Untergrund hinzu. Dadurch wird die Wärme genau dorthin gelenkt, wo sie benötigt wird. So entsteht eine präzise Wärmeverteilung – ohne dass die Wärme in andere Bereiche dringt.
** Hinweise zur Hardware**
Wir verwenden spezielle Stecker, damit alles fest verbunden bleibt – auch dann, wenn die Anlage stark vibriert. Falls Sie diese Lampen in ein altes System einbauen möchten, überprüfen Sie unbedingt die Spannung. Hochleistungs-Lampen bringen die Wafer zwar sehr schnell auf die gewünschte Temperatur – doch sie belasten die Stromversorgung erheblich.
Die trade-offs
Es handelt sich dabei zwar nicht um Zauberei – aber es gibt einige Dinge, auf die man achten muss. Das größte Problem ist die Gleichmäßigkeit der Wärmeverteilung. Da die Wärme gezielt dort eingesetzt wird, ist die Genauigkeit bei der Ausrichtung der Lampen entscheidend. Wenn die Lampe nur wenige Millimeter aus der richtigen Position entfernt ist, entstehen Temperaturunterschiede auf der Waferoberfläche. Dabei ist es wichtig, bei der Installation die Position der Lampe sowie den Winkel des Reflektors genau einzustellen, um solche Probleme zu vermeiden.
Vergessen Sie außerdem nicht die Belüftung. Auch wenn die Wände der Anlage kalt bleiben, wird die Wafer selbst mit konzentrierter Wärme bestraft. Wenn Ihr Vakuumsystem nicht ausreicht, könnten Probleme durch Gasentwicklung durch Klebstoffe oder Verunreinigungen entstehen. Stellen Sie sicher, dass Ihr Vakuumsystem die erforderlichen Temperaturen bewältigen kann.