IR-verwarming versus hete lucht: stop met tijd verspillen bij het drogen van wafers
Als je nog steeds gebruikmaakt van hete lucht voor de verwerking van semiconductoren, vecht je feitelijk tegen de klok in.
Het probleem is dat lucht slecht is in het overdragen van warmte. Bij geforceerde convectie moet je eerst de lucht opwarmen, daarna de ruimte waarin zich de wafers bevinden, en pas daarna de wafers zelf. Het is een traag proces. Er is ook een storende vertraging die invloed heeft op je productietijd.
Geen tussenstad meer nodig
Daarom gebruiken we IR-lampen. In plaats van te wachten tot de lucht opwarmt, stuurt de IR-lamp elektromagnetische straling rechtstreeks naar het oppervlak van de wafer. Dit gebeurt onmiddellijk. We gebruiken speciale reflectoren om deze energie precies op de juiste plek te richten. Op deze manier wordt de behuizing van de machine niet onnodig opgewarmd. Je bereikt de gewenste temperatuur in slechts enkele seconden. Hierdoor neemt je productiecapaciteit toe.
Het gaat om de reflectoren
De echte ‘magie’ zit in het ontwerp van de reflectoren. Als je goedkope reflectoren gebruikt, gooi je eigenlijk de helft van de energie weg. We gebruiken reflectoren met hoge reflectiviteit, zodat elke foton terug wordt gestuurd naar de wafer. Hierdoor ontstaat een homogeen warmtemodel. De wafer droogt dus gelijkmatig – en belangrijker nog: er vindt geen vervorming van de wafer plaats.
De nadelen
Het is natuurlijk geen magische oplossing. Er zijn ook nadelen. IR-lampen worden erg heet. Als de reflectoren niet perfect werken of de koelfans de hitte niet kunnen bedwingen, kan de lamp beschadigen of kan de behuizing vervormen. Je moet goed afwegen hoeveel kracht er nodig is en welk koelsysteem dit kan dragen.
De werkelijkheid
Voor iedereen die genoeg heeft van het trage proces van convectieverwarming, is IR de oplossing. Het verkleint de afmetingen van de behandelingsschakel en bespaart tijd. Zet de apparatuur op, stel de reflectoren in en zie hoe je cyclustijden korter worden.