Pada garisan pengeluaran 300mm, sisa fluks yang tinggal selepas proses pembentukan “bump” pada wafer bukan sekadar pencemaran biasa. Ia merupakan ancaman terhadap kebolehpercayaan produk tersebut. Proses penguapan yang tidak lengkap akan menyebabkan adanya rongga dan sambungan tidak sempurna antara komponen-komponen tersebut. Akibatnya, kadar bahan buangan akan meningkat, manakala beban haba yang diperlukan juga melebihi had yang ditetapkan. Sistem ini dibina untuk mengurangkan pembaziran sejak awal lagi.
Apa yang benar-benar penting
Sistem ini menggunakan gelombang inframerah pendek untuk memastikan proses penguapan fluks berlaku dengan cepat dan terkawal. Suhu di seluruh permukaan wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C. Penggunaan pemanas jenis kuarsa memastikan penghasilan haba yang bersih tanpa zarah-zarah berkaitan. Selain itu, saluran pengudaraan sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, agar tidak berlaku pencemaran di dalam bilik tersebut.
Ketepatan proses dipastikan melalui kawalan suhu dan masa yang tepat. Insulasi berbahan gentian karbon membantu menstabilkan suhu, walaupun semasa proses pengeluaran yang berkelajuan tinggi.
Mengapa sistem ini berkesan dalam penggunaan sebenar
Sama ada dalam proses pengeringan wafer, litografi, atau pengeringan bahan pembungkusan, keperluannya tetap sama: kawalan suhu yang efektif tanpa mengurangkan hasil pengeluaran. Sistem ini dapat digunakan secara langsung dalam garisan pengeluaran, dengan membuang fluks dengan tepat tanpa merosakkan lapisan logam di bawahnya.
Proses pemprosesan photoresist juga berjalan dengan lebih efisien, dan masa yang diperlukan untuk proses pembersihan dan pengeringan juga berkurangan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana sistem ini hanya memanaskan bahan tersebut apabila diperlukan sahaja, tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan. Dengan cara ini, operasi boleh dilakukan 24/7, dengan jadual penyelenggaraan yang mudah dirancang.
Butiran praktikal yang perlu diambil kira
Saiz sistem ini adalah kompak, tetapi anda perlu memastikan semua komponen yang diperlukan berfungsi dengan baik, seperti sistem pengudaraan yang efektif, udara kering yang bersih, serta voltan yang stabil. Proses penskalaan sistem ini memerlukan masa yang singkat, tetapi anda perlu menyesuaikan sistem pengudaraan agar sesuai dengan jenis fluks dan struktur wafer yang digunakan.
Setelah semuanya disusun dengan betul, risiko kegagalan proses akan berkurangan. Dengan memadankan fluks yang digunakan dengan profil wafer yang sesuai, hasilnya akan menjadi lebih baik.