Di fasiliti pengeluaran, suhu yang dihasilkan oleh ketuhar oksidasi menentukan tahap integriti lapisan oksida pada seluruh wafer. Perubahan suhu sebanyak 1°C saja sudah cukup untuk menjadikan wafer yang berkualiti tinggi menjadi bahan buangan. Kami telah mereka unsur pemanas untuk proses oksidasi wafer ini agar variasi suhu dapat dikurangkan sepenuhnya.
Apa yang penting dari segi teknikal
Komponen utama dalam reka bentuk ini ialah susunan lampu kuarsa-halogen yang menghasilkan tenaga gelombang pendek secara langsung ke arah wafer. Ini memastikan keseragaman suhu sebanyak ±0.1°C di seluruh kawasan pemprosesan.
Pada skala sub-10nm, kita tidak boleh berkompromi dari segi ketepatan suhu ini. Kualiti permukaan wafer bergantung sepenuhnya pada ketepatan proses pemanasan. Unsur pemanas ini memastikan kestabilan suhu tersebut sepanjang masa, tanpa sebarang gangguan. Ia juga beroperasi dengan bersih—tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya, dan sesuai untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran
Unsur pemanas ini membantu mengurangkan tekanan yang timbul semasa proses litografi dan etching. Apabila profil suhu tetap konsisten, ketebalan lapisan fotoresist akan tetap sama setelah proses pemanasan, sehingga tidak akan ada masalah seperti ketidakteraturan permukaan wafer semasa proses etching.
Hasilnya ialah pengurangan jumlah kerja pembaikan, serta peningkatan jumlah wafer yang dapat dihasilkan setiap kali proses berlangsung. Selain itu, kecekapan tenaga juga meningkat, sekali gus mengurangkan kos operasi tanpa mengurangkan kelajuan pengeluaran.
Apa yang perlu dirancang
Unsur pemanas ini boleh dipasang pada platform ketuhar yang sedia ada, tetapi ia memerlukan sumber kuasa dan antaramuka kawalan yang khusus agar dapat berfungsi dengan baik. Profil gelombang pendek sangat sesuai untuk proses pemanasan yang cepat, tetapi penyesuaian posisi unsur pemanas terhadap wafer harus dilakukan dengan tepat—sekiranya tidak, ia akan menyebabkan kawasan panas yang tidak merata.
Kami melakukan ujian di tapak untuk memastikan profil suhu yang dihasilkan sesuai dengan prosedur pengeluaran yang ditetapkan, agar prestasi unsur pemanas tetap konsisten dari satu lot ke lot yang lain.