Flusso di evaporazione per bump del wafer
Nella linea da 300 mm, i residui di flusso rimasti dopo la formazione delle “bump” sul wafer non rappresentano semplicemente una fonte di...
Lampada riscaldante per il trattamento dei wafer in SiC
Sul campo di produzione, i wafer in SiC non sono compatibili con le piastre riscaldanti tradizionali. Per procedimenti di cottura delicata o...
Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer
Nella fase di produzione, il bilancio termico del forno di ossidazione determina i parametri fondamentali per garantire l’integrità dell’ossido...
Produttore cinese di essiccatori per wafer
Sul piano di produzione, una soft bake a 110°C con una deriva di ±1,5°C non è solo un parametro, è una perdita di resa in attesa di manifestarsi....