In der 300-mm-Linie ist der Rückstand an Flussmittel nach der Herstellung der „Bumps“ keine bloße Verunreinigung – es handelt sich dabei um eine „Sicherheitsfalle“, die jederzeit explodieren kann. Eine unvollständige Verdampfung des Flussmittels führt zu Lücken und Verbindungen zwischen den Strukturen auf dem Wafer. Dadurch steigt die Anzahl der Ausschusswaren, während das thermische Budget überschritten wird. Wir haben dieses System entwickelt, um diesen Schaden bereits in seiner Entstehungsphase zu verhindern.
Was wirklich wichtig ist
Das System erreicht eine schnelle, kontrollierte Verdampfung des Flussmittels mithilfe von Kurzwellen-Infrarotstrahlung. Gleichzeitig bleibt die Temperatur über den gesamten Wafer gleich – mit einer Genauigkeit von ±0,1°C. Die Quarzköpfe liefern saubere, staubfreie Wärme. Zudem ist der Abluftweg kompatibel mit Reinräumen der Klasse 1–100 – somit wird eine Verunreinigung des Chambers vermieden.
Die Wiederholgenauigkeit ist in jedem Betriebszyklus gewährleistet – von sanfter bis hin zu intensiver Erwärmung. Die Temperatur und Zeit werden genau gesteuert. Die Kohlenstofffaserverkleidung reduziert Energieverluste und hält die Einstellwerte stabil, auch bei hohem Durchsatz.
Warum das System in der Praxis funktioniert
Egal ob beim Trocknen von Wafers, in der Lithografie oder bei der Vorbereitung für das Verpacken – die Anforderung bleibt immer dieselbe: Eine kontrollierte Erwärmung, die nicht zu Verlusten führt. Dieses System kann direkt in die Produktionslinien integriert werden. Es entfernt das Flussmittel präzise, ohne die darunterliegende Metallisierung zu beschädigen.
Die Bearbeitung des Fotolacks erfolgt innerhalb der zulässigen Toleranzen. Die Reinigungs- und Trocknungsprozesse sind schneller abgeschlossen – dadurch gibt es weniger Nacharbeiten. Der Energieverbrauch sinkt, da das System nur dann erwärmt wird, wenn es benötigt wird. So kann das System rund um die Uhr betrieben werden, mit Wartungsintervallen, die man planen kann.
Praktische Details, die beachtet werden müssen
Die Abmessungen des Systems sind kompakt – doch es sind genaue Anpassungen an die Infrastruktur erforderlich: spezielle Abluftsysteme, saubere Luft sowie stabile Spannungen. Die Inbetriebnahme dauert nicht lange – doch es muss noch die Abluftmenge an die speziellen Eigenschaften des Flussmittels sowie des Waferstapels angepasst werden.
Sobald das System eingestellt ist, wird das Risiko von Lücken und Rückständen minimiert. Wenn das Flussmittel richtig gewählt wird, sind die Ergebnisse sicher.