Trên sàn sản xuất, một tấm wafer 300 mm đặt trên dây chuyền, chờ quá trình soft bake để cố định cấu hình photoresist. Nếu đĩa nóng lệch dù chỉ một chút, kiểm soát chiều rộng đường mạch sẽ bị sai lệch và toàn bộ lô có thể bị loại bỏ. Chúng tôi đã thiết kế đèn sưởi XRD để loại bỏ sự biến động đó.
Những điểm kỹ thuật quan trọng
Đèn hoạt động với bước sóng hồng ngoại ngắn sử dụng phần tử halogen thạch anh, truyền nhiệt trực tiếp đến vị trí cần thiết. Độ đồng đều nhiệt độ trên bề mặt wafer duy trì trong khoảng ±0.1°C, và độ lặp lại điểm đặt nhiệt giữ ổn định qua nhiều lần chạy. Đèn được vận hành trong phòng sạch Class 1–100, trong quá trình hoạt động lượng hạt sinh ra dưới 0.1 hạt/cm³. Công suất đầu ra ổn định trên 5.000+ giờ, với độ trôi cường độ dưới 5%.
Lý do thiết bị này phù hợp trong công nghệ in mạch quang học
Soft bake là giai đoạn loại bỏ dung môi và thiết lập ứng suất màng. Hard bake sau đó cố định cấu hình đã đóng rắn cho các bước ăn mòn và cấy ion. Đèn này đạt nhiệt độ nhanh, rút ngắn thời gian bake và giữ ngân sách nhiệt sạch. Kết quả là hiệu suất kích thước quan trọng ổn định, giảm số lần xử lý lại và tiêu thụ năng lượng trên mỗi wafer thấp hơn.
Khi sấy wafer sau công đoạn làm sạch, kiểm soát tương tự giúp ngăn ngừa hiện tượng ngưng tụ lại và vết nước xuất hiện—giữ tỷ lệ sản phẩm đạt yêu cầu cao.
Những lưu ý cần thiết
Kích thước nhỏ gọn và dễ dàng lắp vào hầu hết các module track và coater, nhưng việc tích hợp vẫn cần chú ý. Kiểm tra khoảng trống đường quang học, đảm bảo nguồn cấp điện ổn định và xác minh đường thoát khí cho các chất bay hơi.
Có thời gian làm nóng ngắn để đạt điểm đặt nhiệt—cần lên kế hoạch công thức bake phù hợp với quá trình tăng nhiệt này. Khi căn chỉnh và hiệu chuẩn hoàn chỉnh, cửa sổ quy trình được mở rộng mà không làm tăng độ phức tạp.