Dalam proses pembuatan baterai berbasis solid-state ini, diperlukan kontrol termal yang sangat ketat, sebanding dengan toleransi yang ada pada wafer tersebut. Jika proses pemanasan tidak dilakukan secara tepat, atau terdapat area dingin di permukaan substrat, maka kualitas hasil produksi akan menurun, dan lapisan antarmuka pun akan mengalami kerusakan. Kami membuat alat pemanas khusus untuk memastikan setiap tahap proses berlangsung dalam rentang suhu yang ditentukan.
Hal-hal penting secara teknis
Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi tinggi beserta pemancar kuarsa yang responsif cepat untuk memindahkan panas langsung ke substrat. Di zona aktif, tingkat keseragaman suhu tetap stabil pada ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas antara setiap siklus pemrosesan tetap di bawah ±0,5°C. Sistem ini dapat beroperasi di ruang bersih kelas 1–100 tanpa menimbulkan partikel kotor, dan hal ini telah kami pastikan melalui pengujian secara langsung. Profil fotorezistan tetap konsisten sepanjang proses pemanasan, dan waktu pengeringan dapat dikontrol dengan presisi tinggi—tanpa adanya penyimpangan akibat proses pemanasan yang berkepanjangan.
Mengapa sistem ini cocok digunakan dalam pabrik baterai solid-state
Dalam proses ini, proses pengeringan wafer, pemanasan awal fotorezistan, dan proses pengeringan lapisan antarmuka dilakukan secara berturut-turut. Penggunaan sinar inframerah membantu mengurangi waktu proses, karena tidak ada lagi penundaan akibat proses pemanasan. Kontrol berkelanjutan memastikan bahwa dimensi-dimensi penting tetap berada dalam batas yang ditentukan. Dengan demikian, kontrol terhadap dimensi material menjadi lebih baik, jumlah bahan yang perlu diproses ulang berkurang, dan penggunaan energi pun berkurang, karena energi dialokasikan untuk memanaskan film dan substrat, bukan untuk menghangatkan seluruh ruang proses. Dengan demikian, proses produksi menjadi lebih efisien, dan hasilnya pun dapat diprediksi dengan baik.
Hal-hal yang perlu diketahui sebelumnya
Proses integrasinya cukup sederhana, tetapi jarak antara pemancar dan substrat perlu diatur dengan tepat—karena tingkat keseragaman suhu bergantung pada hal ini. Diperlukan waktu singkat untuk menyesuaikan parameter proses sesuai kebutuhan spesifik. Pemancar-pemancar ini dirancang untuk dapat beroperasi selama 5.000 jam lebih, dengan penyimpangan output yang minimal. Kami juga melakukan kalibrasi preventif setiap 2.000 jam, agar tingkat keseragaman suhu tetap memenuhi standar yang ditentukan.