विनिर्माण स्थल पर, ऑक्सीकरण भट्टी का तापीय मापदंड, पूरे वेफर पर ऑक्साइड की गुणवत्ता का आधार निर्धारित करता है। केवल 1°C का अंतर ही किसी अच्छे उत्पाद को बेकार बना सकता है। हमने ऐसे ही उपकरण विकसित किए हैं, ताकि ऐसी अस्थिरताओं से बचा जा सके।
तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें
इस डिज़ाइन का मूल घटक, क्वार्ट्ज-हैलोजन लैंप है; यह शॉर्ट-वेव ऊर्जा को सीधे वेफर पर पहुँचाता है। इससे प्रसंस्करण क्षेत्र में तापमान स्थिर रहता है – ±0.1°C के भीतर।
10नैनोमीटर से कम आकारों के लिए ऐसी सटीकता आवश्यक है। फोटोरेसिस्ट की गुणवत्ता एवं एटचिंग प्रक्रिया, इस उपकरण की सटीकता पर ही निर्भर है। यह उपकरण 24/7 लगातार काम करता है, एवं इससे कोई कण उत्पन्न नहीं होता – यह क्लास 1 क्लीनरूम परिस्थितियों में भी संभव है।
उत्पादन में इसकी उपयोगिता
यह लिथोग्राफी एवं एटचिंग प्रक्रियाओं में होने वाली समस्याओं को दूर करता है। जब तापमान स्थिर रहता है, तो फोटोरेसिस्ट की मोटाई भी स्थिर रहती है; इससे एटचिंग प्रक्रिया में कोई समस्या नहीं होती।
इसके परिणामस्वरूप फिर से प्रसंस्करण की आवश्यकता कम हो जाती है, एवं प्रति मास्क अधिक वेफर तैयार होते हैं। इसके अलावा, ऊर्जा दक्षता भी बढ़ जाती है, जिससे संचालन लागत कम हो जाती है, बिना उत्पादन दर में कमी के।
योजना बनाते समय ध्यान रखने योग्य बातें
यह उपकरण मौजूदा भट्टियों में ही इस्तेमाल किया जा सकता है, लेकिन इसके सही तरीके से काम करने हेतु एक विशेष बिजली आपूर्ति एवं नियंत्रण प्रणाली आवश्यक है। शॉर्ट-वेव ऊर्जा, तेज़ तापीय प्रसंस्करण हेतु उपयुक्त है; लेकिन वेफर के साथ इसका सही संरेखण आवश्यक है – अन्यथा स्थानीय रूप से उच्च तापमान पैदा हो जाएगा।
हम स्थल पर ही इस उपकरण का परीक्षण करते हैं, ताकि इसका प्रदर्शन हर बार समान रहे।