در کارخانههای تولید، میزان گرمای تولید شده توسط کوره اکسیداسیون، معیاری برای تعیین کیفیت لایه اکسید روی سطح ویفر است. حتی تغییر ۱ درجه سانتیگراد در دما نیز میتواند باعث از بین رفتن کیفیت ویفر شود. ما عنصر گرمایشی مورد استفاده برای اکسیداسیون ویفر را طوری طراحی کردهایم که این نوسانات را از بین ببرد.
آنچه از نظر فنی اهمیت دارد: هسته اصلی این سیستم، مجموعهای از لامپهای کوارتز-هالوژن است که انرژی موج کوتاه را مستقیماً به ویفر منتقل میکنند. این کار باعث ایجاد یکنواختی دمایی در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد در کل ناحیه فرآیند میشود.
در نقاط زیر ۱۰ نانومتر، نمیتوان درباره این موضوع مذاکره کرد. دقت فرآیندهای فتوحساسسازی و حکاکی، به دقت حرارتی مورد استفاده بستگی دارد. این عنصر، استابیلیت دمایی را از شیفتی به شیفت دیگر، و ۲۴ ساعته، حفظ میکند؛ همچنین، هیچ ذرهای تولید نمیشود، و این موضوع در شرایط اتاقهای پاکسازی درجه ۱ نیز تأیید شده است.
چرا این سیستم در تولید موفق عمل میکند: این سیستم، فشارهای ناشی از فرآیندهای لیتوگرافی و حکاکی را کاهش میدهد. وقتی که الگوهای دمایی یکنواخت و قابل تکرار باشند، ضخامت فتوحساسکننده نیز یکنواخت خواهد بود؛ بنابراین، هیچ مشکلی در فرآیند حکاکی ایجاد نخواهد شد.
نتیجه این امر، کاهش تعداد کارهای تکراری و افزایش تعداد ویفرهای تولید شده در هر بار استفاده از ماسک است. همچنین، کارایی انرژی نیز بهبود مییابد؛ این امر باعث کاهش هزینههای عملیاتی بدون کاهش سرعت تولید میشود.
آنچه باید در نظر بگیرید: این عنصر میتواند در پلتفرمهای کورههای موجود استفاده شود، اما برای عملکرد صحیح، به منبع تغذیه و رابط کنترلی جداگانهای نیاز دارد. الگوی موج کوتاه، برای فرآیندهای حرارتی سریع مناسب است؛ اما تنظیم دقیق این عنصر نسبت به ویفر ضروری است؛ در غیر این صورت، نقاط گرم محلی ایجاد خواهد شد.
ما تستهای لازم را در محل انجام میدهیم تا الگوی دمایی با دستورالعملهای دقیق فرآیند هماهنگ شود؛ بنابراین، عملکرد این سیستم در هر بار تکراری یکسان خواهد بود.