Wafer on Warm IR Heater Warehouse

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Wed, 29 Jul 2026 02:40:48 +0800

Tại sao chúng tôi chuyển sang phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại trong quy trình sản xuất wafer

Việc chuyển từ phương pháp sấy bằng dung môi sang phương pháp khử ẩm bằng tia hồng ngoại không chỉ là xu hướng hiện nay mà còn xuất phát từ nguyên lý vật lý đơn giản. Thay vì phải làm nóng cả căn phòng chỉ để sấy một chiếc wafer nhỏ, chúng ta có thể sử dụng các cảm biến và thiết bị phát tia hồng ngoại để tác động trực tiếp lên các phân tử trong lớp phủ. Nhờ vậy, chúng ta có thể loại bỏ những chất xúc tác hóa học và chất ổn định chứa chì – những thứ từng được sử dụng rộng rãi trong các phương pháp sấy truyền thống.

Bộ phản quang cho đèn khử ẩm wafer

Tue, 28 Jul 2026 02:32:17 +0800

Sưởi ấm bằng tia hồng ngoại so với sử dụng không khí nóng: Hãy ngừng lãng phí thời gian trong quá trình xử lý wafer đi!
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng trong quy trình chế tạo linh kiện bán dẫn, thì bạn đang tự mình gây ra sự lãng phí thời gian. Vấn đề là không khí không thể truyền nhiệt hiệu quả. Khi sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng luồng khí, bạn phải làm nóng không khí trước, sau đó mới làm nóng toàn bộ buồng xử lý, và cuối cùng mới làm nóng wafer. Đó là một quy trình chậm chạp. Hiệu suất sản xuất của bạn sẽ bị ảnh hưởng do sự chậm trễ này.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Fri, 24 Jul 2026 08:52:48 +0800

Làm thế nào để sấy khô wafer MEMS một cách hiệu quả?
Khi sản xuất các cảm biến MEMS, việc loại bỏ hơi ẩm là một thách thức lớn. Bạn cần wafer phải được sấy khô hoàn toàn, nhưng bạn không thể dùng nhiệt độ cao để sấy, vì điều đó sẽ làm biến dạng bề mặt wafer hoặc để lại những tạp chất trên bề mặt wafer.

Đây chính là lúc các thiết bị sấy bằng tia hồng ngoại ra đời. Chúng sử dụng các bóng đèn thạch anh có cường độ cao, giúp sấy khô bề mặt wafer trong vài giây thôi. Thật nhanh!

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Sat, 18 Jul 2026 01:42:44 +0800

Hãy ngừng việc sử dụng phương pháp làm nóng thông thường để làm nóng các tấm wafer đi. Nếu bạn từng sử dụng phương pháp này, bạn chắc hẳn biết rõ tình trạng khó chịu mà nó gây ra: bạn cố gắng làm nóng tấm wafer, nhưng thực chất lại làm nóng toàn bộ buồng máy. Điều này khiến lãng phí năng lượng, và thật sự rất phiền phức. Không ai muốn phải đối mặt với tình trạng các bộ phận của máy nóng đến mức nguy hiểm khi chạm vào.

Cảm biến nhiệt độ dành cho dụng cụ xử lý wafer

Sat, 11 Jul 2026 04:03:21 +0800

Ngăn chặn việc các dụng cụ xử lý wafer bị quá nóng
Bạn có bao giờ để ý rằng phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại thông thường lại khiến mọi thứ xung quanh bị nóng lên không? Đó giống như việc cố gắng thắp nến bằng máy phun lửa vậy. Bạn muốn wafer được làm nóng, nhưng thực tế thì toàn bộ buồng chân không lại hấp thụ hết năng lượng từ tia hồng ngoại đó.

Khoảng cách an toàn khi gia nhiệt wafer

Fri, 10 Jul 2026 01:18:27 +0800

Bảo vệ các linh kiện khỏi nguy cơ cháy nổ khi làm nóng wafer trong môi trường dễ bốc cháy
Thành thật mà nói, việc làm nóng wafer trong khu vực có hóa chất dễ bốc cháy giống như việc chơi với lửa vậy. Khi có những hơi cháy bay lơ lửng trong không khí, một tia lửa nhỏ hay sự cố nhiệt độ cao không chỉ gây ra những sự cố kỹ thuật mà còn có thể dẫn đến thảm họa.

Sự bốc hơi do dòng chảy tại các vị trí nổi trên wafer

Sun, 21 Jun 2026 01:44:38 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có độ dài 300mm, lượng chất lỏng còn sót lại sau quá trình tạo hình các điểm tiếp xúc trên wafer không chỉ là nguyên nhân gây ô nhiễm mà còn là mối nguy tiềm ẩn đe dọa đến độ tin cậy của sản phẩm. Việc bay hơi chất lỏng không hoàn toàn khiến cho xuất hiện những khoảng trống và sự kết nối giữa các bộ phận trên wafer; điều này dẫn đến tỷ lệ sản phẩm hỏng tăng lên, trong khi chi phí năng lượng cũng tăng cao. Chúng tôi thiết kế hệ thống này để loại bỏ những yếu tố gây lãng phí ngay từ đầu.

Đèn sưởi dùng trong quy trình xử lý wafer SiC

Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800

Trong quá trình xử lý, các tấm SiC không thể hoạt động tốt với những bảng nhiệt thông thường. Việc nung ở nhiệt độ thấp, nhiệt độ cao, hay việc xử lý sau khi phủ lớp chất cách điện đều đòi hỏi nguồn nhiệt được cung cấp một cách nhanh chóng và đồng đều, mà không làm cho tấm SiC vượt quá giới hạn nhiệt độ cho phép. Khi độ đồng đều của nhiệt độ bị suy giảm, sẽ xuất hiện các vấn đề như biến dạng bề mặt tấm SiC, và kết quả sản xuất cũng sẽ bị ảnh hưởng, và những vấn đề này chỉ được phát hiện sau nhiều giờ kiểm tra.

Phần tử gia nhiệt dùng để oxy hóa wafer

Wed, 17 Jun 2026 10:54:47 +0800

Trong quy trình sản xuất, mức nhiệt độ từ lò oxy hóa quyết định chất lượng lớp oxit bảo vệ bề mặt wafer. Chỉ cần sự thay đổi nhiệt độ 1°C thôi cũng đủ khiến một lô sản phẩm tốt trở thành phế liệu. Chúng tôi đã thiết kế bộ phận gia nhiệt dành cho quá trình oxy hóa wafer nhằm loại bỏ yếu tố biến động nhiệt độ này.

Những yếu tố quan trọng về mặt kỹ thuật Trọng tâm của thiết kế này là bộ đèn huỳnh quang halogen, vốn có khả năng cung cấp năng lượng sóng ngắn trực tiếp vào wafer. Điều này giúp đảm bảo độ đồng đều về nhiệt độ trong toàn bộ khu vực xử lý, với mức sai số chỉ khoảng ±0,1°C.