Sưởi ấm bằng tia hồng ngoại so với sử dụng không khí nóng: Hãy ngừng lãng phí thời gian trong quá trình xử lý wafer đi!
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng trong quy trình chế tạo linh kiện bán dẫn, thì bạn đang tự mình gây ra sự lãng phí thời gian. Vấn đề là không khí không thể truyền nhiệt hiệu quả. Khi sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng luồng khí, bạn phải làm nóng không khí trước, sau đó mới làm nóng toàn bộ buồng xử lý, và cuối cùng mới làm nóng wafer. Đó là một quy trình chậm chạp. Hiệu suất sản xuất của bạn sẽ bị ảnh hưởng do sự chậm trễ này.
Loại bỏ yếu tố trung gian
Đó là lý do tại sao chúng ta chuyển sang sử dụng đèn hồng ngoại. Thay vì chờ đợi không khí được làm nóng, đèn hồng ngoại sẽ truyền bức xạ điện từ trực tiếp vào bề mặt wafer. Quá trình này diễn ra ngay lập tức. Chúng ta sử dụng các tấm phản chiếu chuyên dụng để giữ cho năng lượng được tập trung vào chính vị trí cần thiết, nhờ đó wafer sẽ được làm nóng đều và không bị biến dạng.
Nhược điểm
Tuy nhiên, đây không phải là giải pháp hoàn hảo. Vẫn có những hạn chế. Các đèn hồng ngoại có mật độ cao sẽ tỏa ra nhiệt lượng cực lớn. Nếu các tấm phản chiếu không hoạt động tốt hoặc hệ thống làm mát không đủ mạnh, bạn có thể làm hỏng các bộ phận của đèn hoặc khiến vỏ máy bị biến dạng. Bạn cần phải cân nhắc kỹ lưỡng giữa mức công suất cao của đèn và khả năng làm mát của hệ thống.
Thực tế
Đối với những ai muốn thoát khỏi sự chậm chạp của phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng, việc sử dụng đèn hồng ngoại là giải pháp tốt nhất. Phương pháp này giúp rút ngắn thời gian xử lý wafer và loại bỏ sự lãng phí thời gian do phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng gây ra. Chỉ cần lắp đặt đúng cách và điều chỉnh các tấm phản chiếu, bạn sẽ thấy thời gian xử lý wafer giảm đáng kể.