http://warm-ir-heater-warehouse.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%97%D0%BC/ Recent content in Віфлеїм on Warm IR Heater Warehouse Hugo uk Sun, 21 Jun 2026 01:44:38 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/uk/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ Sun, 21 Jun 2026 01:44:38 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/uk/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ <p><img src="http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Потік випаровування для виступів на пластині"></p> <p>На лінії обробки пластин діаметром 300 мм залишки флюксу після формування виступів на поверхні пластини є не просто джерелом забруднення. Це своєрідна „бомба ненадійності“, яка може спричинити серйозні проблеми. Неповне випаровування флюксу призводить до утворення порожнин та з’єднань між елементами пластини; в результаті підвищується кількість відходів, а температурний режим виходить за межі допустимих значень. Ми створили цю систему для того, щоб усунути ці проблеми на самому початку процесу.</p> <p><strong>Що насправді має значення</strong> Цей пристрій забезпечує швидке та контрольоване випаровування флюксу за допомогою короткочастотного інфрачервоного випромінювання. Він зберігає постійну температуру на всій поверхні пластини – приблизно ±0,1°C. Кварцеві емітери забезпечують чисте, безчастинкове нагрівання, а система відведення газів сумісна з умовами чистої кімнати класу 1–100. Таким чином, забезпечується відсутність забруднень у камері.</p> http://warm-ir-heater-warehouse.com/uk/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/uk/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Лампа для нагріву пластин SiC під час їх обробки"></p> <p>На виробничій лінії пластини з СіК не сумісні зі стандартними нагрівальними пристроями. Для процедур м’якого та жорсткого нагрівання, а також для подальшої обробки необхідна швидка та рівномірна передача тепла, без перевищення температури, яка допускається для пластини. Якщо рівномірність температури порушується, це призводить до появи нерівностей на поверхні пластини, зміни її профілю, а також до проблем у якості продукції, які проявляються лише через кілька годин після завершення процесу обробки.</p> <p><strong>Що є важливим з технічної точки зору</strong><br> Ми використовуємо лампи для нагріву пластин з СіК, які використовують короткочастотне інфрачервоне випромінювання для передачі тепла саме туди, де це необхідно – на поверхню пластини та на елементи, які потребують обробки. Це дозволяє уникнути нагріву самої пластини чи стінок камери. Час реакції становить менше секунди, а рівномірність температури на поверхні пластини залишається в межах ±0,1°C. Це дозволяє забезпечити стабільний контроль критичних параметрів та отримати однаковий профіль після процедури літографії.</p>