การประมวลผล on Warm IR Heater Warehouse

หลอดไฟสำหรับการใช้งานในกระบวนการประมวลผลแผ่น SiC

Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800

ในกระบวนการผลิต SiC wafer แล้ว วัสดุเหล่านี้ไม่สามารถใช้กับเตาอบมาตรฐานได้ดีนัก ไม่ว่าจะเป็นการอบในอุณหภูมิต่ำ อุณหภูมิสูง หรือการอบเพื่อให้วัสดุแข็งตัว ล้วนแล้วแต่ต้องการความร้อนที่สามารถถูกส่งไปยังพื้นผิวของ wafer ได้อย่างรวดเร็วและสม่ำเสมอ โดยไม่ทำให้อุณหภูมิของ wafer เกินขีดจำกัด หากอุณหภูมิไม่สม่ำเสมอ ก็จะเกิดปัญหาต่างๆ เช่น การเกิดไขมันที่ขอบ wafer หรือความผิดเพี้ยนของรูปร่าง wafer ซึ่งจะสังเกตเห็นได้ก็ต่อเมื่อมีการตรวจสอบหลังจากนั้นหลายชั่วโมง

สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค เราใช้หลอดไฟที่ให้ความร้อนแบบอินฟราเรดความยาวคลื่นสั้น เพื่อส่งความร้อนไปยังบริเวณที่จำเป็น นั่นคือพื้นผิวของ wafer โดยไม่ทำให้ส่วนอื่นๆ ของเตาอบร้อนขึ้น การตอบสนองของหลอดไฟนั้นเกิดขึ้นในเวลาไม่ถึงวินาที และอุณหภูมิของ wafer จะอยู่ในช่วง ±0.1°C ซึ่งช่วยให้สามารถควบคุมขนาดของ wafer ได้อย่างแม่นยำ และช่วยให้ได้ผลลัพธ์ที่สม่ำเสมอหลังจากการฉายแสง

หลอดไฟนี้สามารถติดตั้งได้ในห้องสะอาดระดับ Class 1–100 โดยไม่ก่อให้เกิดอนุภาคใดๆ และการออกแบบที่มีการปิดผนึกทำให้ไม่มีสิ่งสกปรกเข้ามาได้ ประสิทธิภาพของหลอดไฟยังคงสม่ำเสมอตลอดเวลามากกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีการลดลงของประสิทธิภาพน้อยกว่า 5% ดังนั้นจึงสามารถใช้งานได้ตลอด 24/7 โดยไม่มีปัญหาด้านเวลาการทำงาน

เหตุผลที่วิธีนี้เหมาะสำหรับ SiC การประมวลผล SiC นั้นมีความซับซ้อนมาก เพราะมีค่าการนำความร้อนสูง พื้นผิวบาง และมีข้อจำกัดในการใช้พลังงาน การใช้ความร้อนแบบอินฟราเรดช่วยลดเวลาในการอบและการทำให้วัสดุแข็งตัว เพราะพลังงานถูกส่งไปยังพื้นผิวโดยตรง ซึ่งช่วยลดเวลาที่ต้องรอระหว่างการเคลือบวัสดุกับการฉายแสง และยังช่วยลดการใช้พลังงานจากเตาอบที่มีขนาดใหญ่อีกด้วย

สำหรับการอบในอุณหภูมิต่ำ หลอดไฟจะช่วยขจัดสารละลายออกอย่างรวดเร็ว พร้อมทั้งควบคุมอุณหภูมิของพื้นผิวไว้ ดังนั้นจึงไม่เกิดปัญหาเรื่องการเกิดไขมันที่ขอบ wafer ส่วนการอบในอุณหภูมิสูงนั้น หลอดไฟจะช่วยทำให้วัสดุแข็งตัวโดยไม่ทำให้ชั้นวัสดุด้านล่างร้อนเกินไป สิ่งที่ได้รับคืออัตราการผลิตที่เร็วขึ้น ความแม่นยำในการประมวลผลที่สูงขึ้น และมีวัสดุที่ต้องทิ้งน้อยลง

สิ่งที่คุณควรรู้ก่อนเริ่มใช้งาน การติดตั้งหลอดไฟนั้นขึ้นอยู่กับการปรับแต่งตำแหน่งของหลอดไฟให้เหมาะสมกับรูปร่างของ Wafer หลอดไฟนี้ถูกออกแบบมาสำหรับ Wafer ขนาด 150 มม. และ 200 มม. หากคุณใช้ Wafer ขนาด 300 มม. ก็จำเป็นต้องปรับแต่งอุปกรณ์และระบบควบคุมให้เหมาะสมกับพื้นที่ที่ใหญ่ขึ้นด้วย

เครื่องทำความร้อนสำหรับการประมวลผลแบตเตอรี่แบบโซลิดสเตต

Thu, 18 Jun 2026 00:36:17 +0800

ในกระบวนการผลิตแบตเตอรี่แบบโซลิดสเตตนั้น จำเป็นต้องมีการควบคุมอุณหภูมิอย่างเข้มงวด เพื่อให้ได้ค่าที่แม่นยำตามมาตรฐานของวัสดุที่ใช้ในการผลิต หากมีความคลาดเคลื่อนเพียงเล็กน้อยก็อาจส่งผลให้คุณภาพของแบตเตอรี่ลดลง และชั้นต่างๆ ที่เกิดขึ้นก็อาจมีข้อบกพร่องได้ เราจึงสร้างเครื่องทำความร้อนสำหรับกระบวนการผลิตแบตเตอรี่แบบโซลิดสเตตขึ้นมา เพื่อให้ทุกขั้นตอนอยู่ในขอบเขตอุณหภูมิที่กำหนดไว้

สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค
เราใช้แสงอินฟราเรดความยาวคลื่นสั้นพร้อมเครื่องปล่อยความร้อนแบบควอตซ์ที่มีความสามารถในการตอบสนองได้อย่างรวดเร็ว เพื่อส่งความร้อนเข้าไปในวัสดุโดยตรง ในบริเวณที่มีการประมวลผล ค่าความสม่ำเสมอของอุณหภูมิจะอยู่ที่ ±0.1°C และค่าความสม่ำเสมอระหว่างการประมวลผลครั้งต่างๆ จะอยู่ที่ ±0.5°C ระบบนี้สามารถทำงานได้ในห้องปลอดฝุ่นระดับ Class 1–100 โดยไม่ก่อให้เกิดฝุ่นเพิ่มขึ้น และเราก็มีการตรวจสอบค่าความสม่ำเสมอของอุณหภูมิอย่างสม่ำเสมอ ค่าความสม่ำเสมอของโฟโตรีซิสต์จะยังคงอยู่ในระดับที่สม่ำเสมอตั้งแต่ขั้นตอนการประมวลผลแรกจนถึงขั้นตอนสุดท้าย และการควบคุมอุณหภูมิก็สามารถทำได้อย่างแม่นยำในระดับมิลลิวินาที

เหตุผลที่ระบบนี้เหมาะสำหรับการผลิตแบตเตอรี่แบบโซลิดสเตต
ในกระบวนการนี้ ขั้นตอนการทำให้วัสดุแห้ง การประมวลผลโฟโตรีซิสต์ และการทำให้ชั้นต่างๆ แข็งตัวนั้นเกิดขึ้นต่อเนื่องกัน แสงอินฟราเรดช่วยลดเวลาการประมวลผลได้ และระบบควบคุมแบบลูปปิดช่วยให้ค่าความสม่ำเสมอของอุณหภูมิอยู่ในขอบเขตที่กำหนดไว้ ดังนั้นจึงสามารถควบคุมค่าความสม่ำเสมอของอุณหภูมิได้อย่างดี ลดจำนวนการปรับแก้ผลิตภัณฑ์ และลดการใช้พลังงาน เพราะพลังงานจะถูกนำไปใช้กับวัสดุและชั้นต่างๆ ที่ใช้ในการผลิต ไม่ใช่กับห้องประมวลผลเอง ด้วยเหตุนี้ ขั้นตอนการประมวลผลจึงสามารถทำได้อย่างรวดเร็ว และคุณภาพของแบตเตอรี่ก็สามารถคาดการณ์ได้

สิ่งที่ควรรู้ก่อนเริ่มใช้งาน
การติดตั้งระบบนี้ค่อนข้างง่าย แต่จำเป็นต้องกำหนดระยะห่างระหว่างเครื่องปล่อยความร้อนกับวัสดุให้แม่นยำ เพราะความสม่ำเสมอของอุณหภูมิขึ้นอยู่กับระยะห่างนี้ คาดว่าจะต้องมีการทดสอบระบบเพื่อปรับค่าต่างๆ ให้เหมาะสมกับกระบวนการผลิตของคุณ โดยเครื่องปล่อยความร้อนนี้สามารถทำงานได้นานกว่า 5,000 ชั่วโมง โดยมีค่าความเบี่ยงเบนของอุณหภูมิน้อยมาก และเราก็มีการปรับแต่งระบบเพื่อรักษาค่าความสม่ำเสมอของอุณหภูมิทุกๆ 2,000 ชั่วโมง