Lâmpada de aquecimento para processamento de wafers de SiC

Fri, 19 Jun 2026 01:38:16 +0800

Na prática, as bolachas de SiC não se dão bem com as placas de aquecimento convencionais. Para processos de secagem suave, secagem intensa e cura pós-aplicação, é necessário um calor que chegue rapidamente e de forma uniforme, sem exceder o limite térmico da bolacha. Quando a uniformidade da temperatura falha, surgem problemas como bordas irregulares e desvios no perfil da superfície da bolacha. Esses problemas só são detectados após horas de medição.

Aquecedor para processamento de baterias de estado sólido

Thu, 18 Jun 2026 00:36:17 +0800

Nos processos de fabricação de baterias de estado sólido, é necessário um controle térmico extremamente preciso, tanto quanto as tolerâncias dos wafer utilizados na sua produção. Qualquer erro no controle térmico, por menor que seja, pode afetar negativamente a qualidade do produto final. Construímos este aquecedor especial para manter todas as etapas do processo dentro dos limites térmicos estabelecidos.

O que é importante, do ponto de vista técnico Utilizamos emissores de infravermelho de onda curta, com resposta rápida, para transmitir calor diretamente ao substrato. Na área ativa do wafer, a uniformidade térmica fica entre ±0,1°C, enquanto a repetibilidade entre diferentes ciclos de processamento fica abaixo de ±0,5°C. O sistema funciona em salas limpas de classe 1–100, sem a geração de partículas indesejadas. Os perfis do fotoreagente permanecem consistentes durante todo o processo, e os tempos de cura são controlados com precisão milimétrica – sem variações devido a rampas de aquecimento longas.

Processamento on Warm IR Heater Warehouse

Lâmpada de aquecimento para processamento de wafers de SiC

Aquecedor para processamento de baterias de estado sólido