Por que estamos passando para o tratamento por radiação infravermelha nas fábricas de wafers
Passar do método de secagem com solventes para o tratamento por radiação infravermelha não é apenas uma tendência do mercado. Na verdade, trata-se de um princípio físico bem simples. Em vez de aquecer todo o ambiente só para secar um pequeno wafer, utilizamos sensores e emissores de radiação infravermelha para ativar as vibrações moleculares específicas presentes no revestimento do wafer. É um processo direto e eficiente. Como a energia vai diretamente para onde é necessária, podemos eliminar esses catalisadores químicos e estabilizantes à base de chumbo que eram usados nos métodos tradicionais de secagem.
Redução do consumo de energia
Pense em um forno convencional: ele gasta uma enorme quantidade de energia apenas para aquecer o ar ao redor do produto. Isso é desperdício. O método de radiação infravermelha é diferente: enviamos radiação eletromagnética diretamente para a superfície do wafer. Não é preciso esperar horas até que o forno atinja a temperatura desejada. Basta acionar um interruptor, e os emissores ficam prontos para funcionar em segundos. Além disso, como usamos radiação infravermelha de onda curta, a energia penetra rapidamente na camada de fotoresist ou adesivo. Isso significa ciclos de secagem mais curtos. Menos tempo sob a luz significa menos quilowatts-hora consumidos por wafer. É simplesmente lógico.
Processo limpo e sem chumbo
Se você trabalha com padrões livres de chumbo, a faixa de temperatura permitida é muito estreita. Se a temperatura subir demais, o substrato pode ser danificado ou podem ocorrer gases tóxicos. Para evitar isso, utilizamos sensores em circuito fechado que monitoram a superfície do wafer em tempo real. Se a temperatura se desviar, o sistema ajusta imediatamente a potência, mantendo-a dentro de uma margem de ±1°C. É realmente alívio não precisar mais usar estabilizantes à base de metais pesados para evitar superaquecimento do forno. Você obtém um processo limpo, que segue as normas ambientais globais, sem complicações.
A realidade
O tratamento por radiação infravermelha é rápido, mas não é mágico. Há um problema: a camada superior do wafer pode secar muito mais rápido do que a inferior. Se você não tomar cuidado com a localização dos sensores ou com a distância entre eles e os emissores, a secagem será irregular. E se a linha de produção não estiver bem calibrada? Poderão surgir fissuras no wafer. É preciso alguma calibração para que tudo funcione corretamente, mas, uma vez feito isso, o resultado é excelente.