Wafel on Warm IR Heater Warehouse

Precisie IR sensor voor wafer

Wed, 29 Jul 2026 02:40:54 +0800

Waarom we overschakelen op IR-geharden in de chipfabriek

Het overstappen van drogen op basis van oplosmiddelen naar IR-geharden is niet zomaar een trendvolgnummer. Het is eigenlijk een eenvoudige kwestie van física.

In plaats van een hele ruimte op te warmen alleen om een piepkleine chip te drogen, gebruiken we IR-sensoren en -emitters om specifieke moleculaire trillingen in het laagje aan te tasten. Het is een rechtstreekse actie. Omdat de energie rechtstreeks naar waar nodig gaat, kunnen we die vervelende chemische katalysatoren en loodhoudende stabilisatoren weglaten, die vroeger standaard waren in oude thermische systemen.

Reflector voor wafer curelamp

Tue, 28 Jul 2026 02:32:18 +0800

IR-verwarming versus hete lucht: stop met tijd verspillen bij het drogen van wafers
Als je nog steeds gebruikmaakt van hete lucht voor de verwerking van semiconductoren, vecht je feitelijk tegen de klok in.

Het probleem is dat lucht slecht is in het overdragen van warmte. Bij geforceerde convectie moet je eerst de lucht opwarmen, daarna de ruimte waarin zich de wafers bevinden, en pas daarna de wafers zelf. Het is een traag proces. Er is ook een storende vertraging die invloed heeft op je productietijd.

Droger voor MEMS sensorwafer

Fri, 24 Jul 2026 08:52:49 +0800

Het correct drogen van MEMS-wafers

Bij de productie van MEMS-sensoren is het belangrijk om vocht te verwijderen. Je wilt dat de wafer droog is, maar je kunt hem niet zomaar met hitte behandelen, want dan kan het substraat beschadigen of kunnen er restanten achterblijven.

Daarom gebruikten we infraroodverwarmers. We maken gebruik van kwartslampen met hoge intensiteit, waardoor het oppervlak in een paar seconden droogt. Het is erg snel.

Het evenwicht tussen vermogen en hitte

Je kunt niet zomaar het vermogen verhogen en hopen op het beste resultaat. Anders krijg je hotspots die de wafern beschadigen.

Energiezuinige waferverwarmer

Sat, 18 Jul 2026 01:42:44 +0800

Stop met het verhitten van uw apparatuur (en begin in plaats daarvan de wafers te verhitten)
Als u ooit gebruik hebt gemaakt van standaard resistieve verwarming, weet u hoe het gaat. U probeert de wafer op te warmen, maar u verhit uiteindelijk de hele binnenkant van de behuizing. Dat is een verspilling van energie, en eerlijk gezegd ook erg lastig. Niemand vindt het fijn om te maken te hebben met apparaten waarvan de wanden gevaarlijk heet worden bij aanraking.

Temperatuursensor voor wafergereedschap

Sat, 11 Jul 2026 04:03:25 +0800

Voorkom dat je wafelgereedschappen te heet worden

Is het je ooit opgevallen dat standaard infraroodverwarming gewoon alle energie naar zich toe trekt? Het is net alsof je probeert een kaars aan te steken met een vlammenwerper. Je wilt dat de wafel heet wordt, maar in plaats daarvan neemt de hele vacuümkamer al die energie op.

Die ‘overbodige warmte’ is een nachtmerrie. Het zorgt er namelijk voor dat het dure gereedschapsgehuis verandert in een soort gigantische hitteafvoerder. Dit leidt tot thermische afwijkingen en – wat nog erger is – tot een reëel risico dat iemand zich op de werkplek verbreekt.

Veilige afstand voor het opwarmen van de wafer

Fri, 10 Jul 2026 01:18:27 +0800

Het veilig houden van de componenten tijdens het verwarmen van wafers in gevarenzones

Laten we eerlijk zijn: het verwarmen van wafers in een chemisch reinigingsgebied is net alsof je met vuur speelt. Als er brandbare dampen in de lucht hangen, kan één enkele vonk of een thermisch ongeluk niet alleen tot technische problemen leiden, maar zelfs tot een ramp.

Om dit te voorkomen, hebben we stopgezet met het gebruik van lampen met open elementen. In plaats daarvan gebruiken we nu geïntegreerde infraroodsystemen. Hieronder leggen we uit hoe dit werkt.

Evaporatieflux voor wafer bump

Sun, 21 Jun 2026 01:44:38 +0800

Op de 300mm-lijn is het residu van de flux na het vormen van de bumps geen gewone vervuiling. Het is eerder een ‘betrouwbaarheidsbom’ die op het punt staat te ontploffen. Onvolledige verdamping kan leiden tot lege ruimtes en verbindingen tussen de onderdelen. Hierdoor stijgt de hoeveelheid afvalproducten, terwijl de thermische belasting boven de grens komt te liggen. We hebben dit systeem ontwikkeld om deze problemen al op de bron te voorkomen.

Wat er echt toe doet Het apparaat zorgt voor een snelle en gecontroleerde verdamping van de flux met behulp van kortegolflengtestraling. Hierdoor blijft de temperatuur over het hele oppervlak van de chip constant bij ±0,1°C. De kwartsemitters leveren schone, stofvrije warmte. De afvoerweg is compatibel met een schoonruimte van klasse 1–100, zodat er geen vervuiling in de kamer kan komen.

Heaterlamp voor SiC wafelbewerking

Fri, 19 Jun 2026 01:38:16 +0800

Op het productieproces werken SiC-wafers niet goed samen met standaardverwarmingspanelen. Zowel het zacht bakken als het hard bakken vereisen dat de hitte snel en gelijkmatig wordt toegepast, zonder dat de wafel zijn thermische limieten overschrijdt. Als de temperatuurongelijkheid te groot wordt, ontstaan er problemen als oneffenheden op de randen van de wafel en afwijkingen in het profiel. Deze problemen worden pas later, na medische controles, ontdekt.

Wat technisch gezien belangrijk is We gebruiken een verwarmer die infrarode straling gebruikt om de hitte precies op de juiste plek te brengen – op het oppervlak van de wafel – zonder dat de transportmiddelen of de wanden van de kamer worden opgewarmd. De reactietijd is minder dan een seconde, en de temperatuurongelijkheid blijft binnen ±0,1°C over het actieve gebied van de wafel. Hierdoor blijft de controle over de belangrijkste dimensies consistent, waardoor je reproduceerbare resultaten krijgt na de lithografie.

Chinese fabrikant van waferdrogers

Sun, 07 Jun 2026 00:55:13 +0800

Op de productievloer is een soft bake bij 110°C met een afwijking van ±1,5°C niet zomaar een parameter—het is een potentiële uitvalbron. Watermerken, edge bead, patrooninstorting—die ontstaan zodra de temperatuurregeling minder nauwkeurig wordt. U heeft een droger nodig die de wafer behandelt als een thermale randvoorwaarde, niet als nog een batch die doorgeschoven moet worden.

Wij ontwerpen waferdrogers rondom reproduceerbare warmteoverdracht en contaminatiecontrole. De kern is kortgolvige infraroodstraling, snel en richtinggericht, gecombineerd met een kwarts-geïsoleerde kamer die de deeltjesproductie tot een minimum beperkt. De temperatuuruniformiteit over de wafer blijft binnen ±0,1°C en de setpoint-stabiliteit wordt met ±0,2°C gehandhaafd tijdens langdurige bakken. Receptbesturing vergrendelt tijd en temperatuur, zodat het gedrag van de fotoresist van lot tot lot identiek is. Het systeem is gecertificeerd voor cleanroom Klasse 1–100, met geïntegreerde HEPA-uitlaat en materialen die uitstoot voorkomen.