Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sat, 11 Jul 2026 04:03:25 +0800

Hentikan alat pemanasan wafer daripada terlalu panas

Pernahkah anda perhatikan bagaimana cara pemanasan inframerah biasa menyebabkan seluruh kawasan menjadi terlalu panas? Ia sama seperti cuba menyalakan lilin menggunakan alat pemadam api. Anda ingin agar wafer menjadi panas, tetapi sebaliknya, seluruh ruang vakum akan menyerap semua tenaga haba tersebut.

Haba yang berlebihan ini merupakan masalah besar. Ia akan menjadikan badan alat tersebut menjadi penyerap haba yang sangat efektif, sehingga menyebabkan perubahan suhu yang tidak diinginkan. Yang lebih buruk lagi, ia boleh menyebabkan kecederaan pada orang-orang yang bekerja di bengkel tersebut.

Lampu pemanas untuk analisis termal

Sun, 28 Jun 2026 00:56:09 +0800

Di bilik pengeluaran, ketuhar pemanasan yang digunakan sentiasa beroperasi, tetapi masalah utama yang timbul ialah kekurangan kuasa panas daripada lampu pemanas yang terdapat dalam alat analisis termal tersebut. Perbezaan suhu sebanyak 2°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada dimensi komponen elektronik sebanyak beberapa nanometer – dan itulah saat di mana proses pengeluaran terhenti. Kami telah reka bentuk lampu pemanas tersebut agar dapat mengurangkan ketidakpastian ini.

Apa yang penting dari segi teknikal
Lampu ini menggunakan tenaga gelombang pendek inframerah dekat (NIR), dengan lapisan kuarsa yang membantu pemindahan haba dengan lebih cepat dan efektif. Ia direka untuk beroperasi pada suhu antara 300–600°C, dan ia mampu mengekalkan keseragaman suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan pemanasan. Tenaga yang diperlukan disalurkan melalui sambungan berstandar yang sesuai dengan ruang analisis, tanpa merosakkan peralatan tersebut.

Suhu on Warm IR Heater Warehouse

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Hentikan alat pemanasan wafer daripada terlalu panas

Lampu pemanas untuk analisis termal