Pengeringan on Warm IR Heater Warehouse

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 08:52:49 +0800

Cara Memastikan Wafer MEMS Kering dengan Betul
Ketika menghasilkan sensor MEMS, membuang kelembapan daripada wafer merupakan proses yang agak rumit. Wafer perlu dikeringkan sepenuhnya, tetapi kita tidak boleh menggunakan haba yang berlebihan, kerana ia akan merosakkan substrat tersebut atau meninggalkan sisa-sisa yang tidak diinginkan.

Inilah di mana pemanas inframerah kami berguna. Kami menggunakan lampu kuarsa berintensiti tinggi yang mampu mengeringkan permukaan wafer dalam masa beberapa saat sahaja. Ia sangat cepat.

Keseimbangan Antara Kuasa dan Haba
Perlu diingat bahawa kita tidak boleh sekadar meningkatkan kuasa pemanas tanpa memikirkan akibatnya. Jika berbuat begitu, permukaan wafer akan menjadi terlalu panas dan rosak.

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di fasiliti pengeluaran

Tue, 21 Jul 2026 01:54:11 +0800

Menghentikan Masalah Kontaminasi dalam Proses Pengeringan

Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti sudah tahu masalahnya: sedikit sahaja debu pun boleh merosakkan kualiti wafer yang dihasilkan. Ia sangat menyebabkan kekecewaan. Kebanyakan elemen pemanaslah yang menjadi penyebabnya – ia mengeluarkan gas atau serpihan kecil yang boleh merosakkan proses pengeringan.

Itulah sebabnya kami beralih kepada kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk digunakan dalam lampu IR kami. Cara ini dapat mengelakkan masalah tersebut.

Mengapa ia berkesan

Kaca biasa tidak mampu menahan haba tanpa rosak atau menghasilkan zarah-zarah mikroskopik. Kami menggunakan kuarsa berkualiti tinggi kerana ia tetap kukuh walaupun pada suhu yang sangat tinggi.