Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC

Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800

Dalam proses pemprosesan wafer SiC, wafer tersebut tidak boleh digunakan bersama dengan plat pemanas biasa. Proses pembakaran, proses pengerasan, dan proses penyembuhan selepas itu memerlukan haba yang diberikan secara cepat dan seragam, tanpa menyebabkan suhu wafer melebihi had yang ditetapkan. Jika keseragaman suhu terjejas, ia akan menyebabkan masalah seperti benjolan pada tepi wafer, perubahan bentuk wafer, dan hasil pengeluaran yang tidak konsisten, yang hanya akan dapat dikenal pasti setelah beberapa jam.

Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan lampu pemanas khusus untuk pemprosesan wafer SiC yang menggunakan sinar inframerah berpanjang gelombang pendek untuk menghantar haba ke tempat yang tepat – iaitu pada permukaan wafer – tanpa memanaskan komponen lain atau dinding bilik pemprosesan. Masa tindak balasnya adalah dalam masa beberapa saat sahaja, dan keseragaman suhu pada permukaan wafer kekal antara ±0.1°C. Dengan cara ini, kawalan dimensi kritikal wafer dapat dipertahankan, dan hasil pengeluaran menjadi lebih konsisten setelah proses litografi selesai.

Pemanas untuk proses pengeluaran bateri bahan pepejal

Thu, 18 Jun 2026 00:36:17 +0800

Dalam proses pengeluaran bateri berasaskan teknologi solid-state ini, kawalan suhu sangat penting, sama seperti ketepatan toleransi yang dikenakan pada wafer tersebut. Jika terdapat kesilapan walaupun sedikit semasa proses pemanasan, atau jika terdapat zon sejuk pada permukaan substrat, maka kualiti hasil pengeluaran akan terjejas, dan lapisan antaramuka juga akan mengalami kecacatan. Kami telah membina alat pemanas khusus untuk memastikan setiap langkah dalam proses pengeluaran berlangsung dalam lingkungan suhu yang ditetapkan.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan sinar inframerah bergelombang pendek bersama pemancar kuarsa yang responsif tinggi untuk memindahkan haba secara langsung ke substrat. Di kawasan aktif, tahap keseragaman suhu kekal pada ±0.1°C, manakala ulangan proses pemanasan pula kekal pada ±0.5°C. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa menambahkan zarah-zarah tertentu, dan kami memastikan hal ini melalui ujian di tapak. Profil fotoresist tetap konsisten sepanjang proses pemanasan, dan masa yang diperlukan untuk proses penyembuhan juga dapat dikawal dengan tepat—tanpa adanya perubahan suhu yang tidak diingini.

Pemprosesan on Warm IR Heater Warehouse

Lampu pemanas untuk pemprosesan wafer SiC

Pemanas untuk proses pengeluaran bateri bahan pepejal