<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dikawal on Warm IR Heater Warehouse</title>
		<link>http://warm-ir-heater-warehouse.com/ms/tags/dikawal/</link>
		<description>Recent content in Dikawal on Warm IR Heater Warehouse</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 00:50:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-warehouse.com/ms/tags/dikawal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas berasaskan semikonduktor yang dikawal oleh PID</title>
				<link>http://warm-ir-heater-warehouse.com/ms/posts/pid-controlled-semiconductor-heater/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 00:50:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-warehouse.com/ms/posts/pid-controlled-semiconductor-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas berasaskan semikonduktor yang dikawal oleh PID&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan produk yang dihasilkan. Proses pengeringan wafer juga akan gagal apabila profil haba tidak dapat dikekalkan secara seragam di seluruh permukaan wafer. Kami menggunakan pemanas semikonduktor yang dikawal oleh sistem PID untuk mengatasi masalah ini. Sistem kawalan inframerah ini memastikan kestabilan haba pada tahap yang tepat.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggabungkan pengeluarkan cahaya inframerah yang responsif dengan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;pemantau&lt;/a&gt; suhu berresolusi tinggi, agar suhu plat dapat dikawal pada tahap ±0.1°C. Ini memastikan proses pemanasan berjalan secara &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;konsisten&lt;/a&gt;, serta memastikan keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Reka bentuknya juga mengurangkan penghasilan zarah debu, kerana tiada filamen panas yang terdedah dan turbulensi konvektif diminimumkan. Untuk tujuan penyimpanan data, sistem ini menyimpan pelbagai tetapan proses serta merekod jejak suhu – mudah untuk audit, tanpa memerlukan usaha tambahan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
