Produttore cinese di essiccatori per wafer

Sun, 07 Jun 2026 00:55:13 +0800

Sul piano di produzione, una soft bake a 110°C con una deriva di ±1,5°C non è solo un parametro, è una perdita di resa in attesa di manifestarsi. Acqua residua, bordo a perline, collasso del pattern: questi problemi sorgono nel momento in cui il controllo termico si allenta. Serve un dryer che consideri il wafer come una condizione al contorno termica, non un altro batch da far passare.

Progettiamo wafer dryer basati su un trasferimento di calore ripetibile e sul controllo della contaminazione. Il cuore è costituito da infrarossi a onde corte, rapidi e direzionali, abbinati a una camera isolata in quarzo che mantiene la generazione di particelle al livello di base. L’uniformità della temperatura sul wafer resta entro ±0,1°C e la stabilità del setpoint si mantiene entro ±0,2°C durante lunghe bake. Il controllo delle ricette fissa tempo e temperatura, così il comportamento del photoresist è identico da lotto a lotto. Il sistema è classificato per cleanroom Classe 1–100, con scarico integrato HEPA e materiali selezionati per evitare fenomeni di outgassing.

Produttore on Warm IR Heater Warehouse

Produttore cinese di essiccatori per wafer