Lampada riscaldante TEL (Tokyo Electron)

Sat, 27 Jun 2026 00:56:31 +0800

Nelle linee di produzione per la litografia, si sa quanto velocemente una variazione di 0,5°C durante il processo di essiccazione del fotoresist possa influire negativamente sulla precisione dei parametri tecnici, causando errori di alcuni nanometri. Il controllo termico non è certo un aspetto secondario: rappresenta invece l’elemento fondamentale per garantire il corretto funzionamento del processo. Le lampade riscaldanti TEL sono state progettate proprio per questo scopo, permettendo di distribuire il calore in modo preciso proprio nel punto in cui si incontrano il wafer, il fotoresist e tutti gli altri componenti necessari al processo.

Elettrone) on Warm IR Heater Warehouse

Lampada riscaldante TEL (Tokyo Electron)