Pengeringan on Warm IR Heater Warehouse

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 24 Jul 2026 08:52:48 +0800

Cara yang Tepat untuk Mengeringkan Wafer MEMS
Saat memproduksi sensor MEMS, menghilangkan kelembapan merupakan hal yang sulit dilakukan. Wafer perlu dikeringkan, tetapi Anda tidak boleh menggunakan panas yang berlebihan, karena hal tersebut akan merusak substrat atau menyisakan sisa-sisa kotoran di permukaannya.

Di sinilah peran pemanas inframerah kami bermanfaat. Kami menggunakan lampu kuarsa bertekanan tinggi yang mampu mengeringkan permukaan wafer dalam waktu beberapa detik saja. Prosesnya sangat cepat.

Keseimbangan antara Daya dan Panas
Yang perlu diperhatikan adalah: Anda tidak bisa sembarangan meningkatkan daya pemanas. Jika demikian, akan tercipta titik-titik panas yang dapat merusak wafer. Kami menghabiskan banyak waktu untuk menentukan kombinasi daya dan voltase yang tepat, sesuai dengan ukuran ruang produksi. Memang, daya yang lebih tinggi akan meningkatkan kecepatan proses produksi, tetapi hal ini akan memberikan beban berat pada sistem pasokan listrik. Anda perlu menyesuaikan jarak antara lampu dan permukaan wafer, serta siklus kerja lampu, agar suhu permukaan tetap sesuai dengan standar yang ditentukan.

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Tue, 21 Jul 2026 01:54:11 +0800

Menghentikan Masalah Kontaminasi dalam Proses Pengeringan di Pabrik Manufaktur

Jika Anda mengelola ruang bersih kelas 100, Anda pasti sudah tahu betapa sulitnya menjaga kebersihan di sana. Sebuah partikel debu sekecil apa pun saja dapat merusak kualitas wafer yang dihasilkan. Hal ini sangat menjengkelkan. Sebagian besar elemen pemanaslah yang menjadi penyebabnya—elemen-elemen tersebut melepaskan gas atau serpihan kecil saat diperlukan untuk menjaga stabilitas suhu.

Itulah sebabnya kami beralih menggunakan kuarsa sintetis berkualitas tinggi untuk lampu IR kami. Cara ini efektif untuk mencegah masalah kontaminasi tersebut.

Mengurangi konsumsi energi dalam proses pengeringan di pabrik

Mon, 29 Jun 2026 02:06:11 +0800

Di fasilitas produksi, setiap joule energi yang digunakan untuk proses pengeringan merupakan joule yang tidak dapat digunakan untuk hal-hal lain dalam proses produksi. Peralatan pengering tradisional cenderung beroperasi melebihi batas yang ditentukan demi mengatasi keterlambatan proses pemanasan; hal ini justru membuang-buang energi dan membahayakan kualitas lapisan fotorezist. Kami membuat platform pengeringan khusus untuk mengurangi pemborosan energi tersebut, sambil tetap mempertahankan kontrol suhu yang optimal sesuai standar litografi.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan pemancar inframerah gelombang menengah, beserta array sensor tipis berbasis sistem siklus tertutup, untuk menjaga stabilitas suhu pada kisaran ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Hal ini memungkinkan terciptanya pola pemanasan yang konsisten, sehingga kontrol ketelitian ukuran wafer pun menjadi lebih baik. Unit ini beroperasi pada tegangan 230 VAC, memiliki ukuran yang kompak, dan array pemancarnya bersifat modular sehingga memudahkan penggantian modulnya saat perawatan. Fungsi operasi di ruang bersih juga terjamin: operasi dilakukan dalam kondisi kelas 1–100 tanpa adanya partikel berbahaya, sebagaimana yang diverifikasi melalui pemantauan secara real-time. Penggunaan energi pun berkurang karena responsnya cepat dan tidak ada kelebihan pemanasan, sehingga anggaran energi tetap terjaga.