SiC वेफर प्रोसेसिंग हीटर लैंप

Fri, 19 Jun 2026 01:38:18 +0800

वास्तव में, SiC वेफरों को सामान्य हीटप्लेटों के साथ इस्तेमाल करना संभव नहीं है। “सॉफ्ट बेक”, “हार्ड बेक” एवं “पोस्ट-एप्लाई क्यूर” जैसी प्रक्रियाओं हेतु ऐसी ऊष्मा आवश्यक है जो तेज़ी से एवं समान रूप से प्रदान हो, ताकि वेफर का तापमान उसकी सहन-क्षमता से अधिक न बढ़े। यदि तापमान में असमानता हो जाती है, तो वेफर की सतह पर दोष पैदा हो जाते हैं, एवं इसका पता कई घंटों बाद ही चलता है।

तकनीकी दृष्टि से महत्वपूर्ण बातें
हम SiC वेफरों के उपचार हेतु ऐसे हीटरों का उपयोग करते हैं, जो शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड का उपयोग करके ऊष्मा को सीधे वेफर की सतह पर ही पहुँचाते हैं… बिना कैरियरों या चैंबर की दीवारों को गर्म किए। इसकी प्रतिक्रिया सेकंडों में ही हो जाती है, एवं वेफर की सतह पर तापमान स्थिर रहता है… ±0.1°C के भीतर। इससे वेफर के आकार/आकृति में स्थिरता बनी रहती है, एवं लिथोग्राफी के बाद भी वेफरों की गुणवत्ता स्थिर रहती है।
ये हीटर्स क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में आसानी से इस्तेमाल किए जा सकते हैं। इनसे कोई कण भी नहीं उत्पन्न होता, एवं सील्ड ऑप्टिकल पथ के कारण संदूषण भी नहीं होता। 5,000+ घंटों तक इनका आउटपुट स्थिर रहता है… केवल 5% की ही कमी होती है। इसलिए इन्हें 24/7 भी इस्तेमाल किया जा सकता है।

SiC on Warm IR Heater Warehouse

SiC वेफर प्रोसेसिंग हीटर लैंप