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		<title>SiC on Warm IR Heater Warehouse</title>
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				<title>Lampe chauffante pour le traitement des wafers en SiC</title>
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				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 01:38:16 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampe chauffante pour le traitement des wafers en SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En pratique, les wafer en SiC ne s’adaptent pas bien aux plaques chauffantes standards. Que ce soit pour un séchage doux, un séchage intense ou une cuisson ultérieure, il est nécessaire d’avoir une chaleur intense et uniforme, sans pour autant dépasser la capacité thermique du wafer. Lorsque l’uniformité de la température est compromise, on observe des problèmes tels que des difformités aux &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;bords&lt;/a&gt; du wafer ou des variations de profil ; ces problèmes ne se manifestent que plusieurs heures après le traitement, lors des mesures de qualité.&lt;/p&gt;</description>
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