<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SiC on Warm IR Heater Warehouse</title>
		<link>http://warm-ir-heater-warehouse.com/fa/tags/sic/</link>
		<description>Recent content in SiC on Warm IR Heater Warehouse</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-warehouse.com/fa/tags/sic/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ گرمایشی برای فرآوری ویفر SiC</title>
				<link>http://warm-ir-heater-warehouse.com/fa/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 01:38:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-warehouse.com/fa/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;لامپ گرمایشی برای فرآوری ویفر SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیندهای پردازش ویفرهای SiC، این ویفرها با اجاق‌های استاندارد سازگار نیستند. برای پخت نرم، پخت سخت و تثبیت مواد در سطح ویفر، نیاز به گرمایی وجود دارد که به سرعت و به طور یکنواخت منتقل شود، بدون اینکه دمای ویفر از حد مجاز خارج شود. وقتی که یکنواختی دما کاهش یابد، مشکلاتی مانند تغییرات در سطح ویفر و کاهش بازدهی پدید می‌آید؛ این مشکلات تا ساعت‌ها بعد قابل تشخیص نیستند.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;از نظر فنی، چه چیزهایی مهم هستند؟&lt;/strong&gt;&#xA;ما از لامپ‌های گرمایشی برای پردازش ویفرهای SiC استفاده می‌کنیم؛ این لامپ‌ها از موج‌های مادون‌قرمز کوتاه برای انتقال گرما به محل دقیق مورد نیاز استفاده می‌کنند؛ بدون اینکه سطح ویفر یا اجزای مربوطه گرم شوند. زمان پاسخگویی این لامپ‌ها کمتر از یک ثانیه است، و یکنواختی دما در سطح ویفر در حد ±۰٫۱ درجه سانتی‌گراد است. در عمل، این موضوع باعث می‌شود کنترل ابعاد کلیدی ویفر به خوبی انجام شود و پس از فرآیند لیتوگرافی، نتایج یکنواختی داشته باشیم.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
