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		<title>Wafer on Warm IR Heater Warehouse</title>
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				<title>Lámpara calefactora para el procesamiento de obleas de SiC</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lámpara calefactora para el procesamiento de obleas de SiC&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En el proceso de fabricación de wafers de SiC, estos no funcionan bien con las placas calefactoras convencionales. Tanto la cocción suave como la cocción intensa, así como el proceso de curado posterior, requieren un calor que se distribuya de manera uniforme y rápida, sin superar el límite térmico del wafer. Cuando la uniformidad de temperatura disminuye, se producen problemas como burbujas en los bordes del wafer, desviaciones en su perfil, y resultados de calidad que no se detectan hasta horas después, cuando se realizan mediciones.&lt;/p&gt;</description>
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