PID gesteuerter Halbleiterheizer

Thu, 25 Jun 2026 00:50:57 +0800

In der Fertigungshalle reicht bereits eine Temperaturabweichung von 0,5 °C während des Weichbrennvorgangs aus, um einen großen Teil der Produkte unbrauchbar zu machen. Das Trocknen der Wafern funktioniert nicht mehr, sobald das thermische Profil auf der gesamten Oberfläche nicht konstant bleibt. Wir haben PID-gesteuerte Halbleiterheizer entwickelt, um diese Schwankungen zu beseitigen – mit einer geschlossenen Schleifensteuerung, die auf die thermische Stabilität der Wafer abgestimmt ist.

Was wirklich wichtig ist
Wir kombinieren einen schnell reagierenden Infrarotstrahler mit einem hochpräzisen PID-Controller, wodurch die Platten Temperatur bei ±0,1 °C gehalten wird. Dadurch entstehen wiederholbare Brennprofile – sowohl beim Weichbrennen als auch beim Hartbrennen – und es wird eine gleichmäßige Wärmeverteilung auf der Waferoberfläche gewährleistet, was wiederum dazu beiträgt, die kritischen Abmessungen unter Kontrolle zu halten. Das System eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100. Durch das Vermeiden von offenen Heizfilamenten sowie durch die Begrenzung der Konvektionsströmungen wird die Erzeugung von Partikeln auf ein Minimum reduziert. Für die Prozessdatenerfassung speichert der Controller mehrere Rezepte sowie Temperaturdaten – somit kann man jederzeit nachvollziehen, wie der Prozess abgelaufen ist, ohne zusätzliche Arbeit.

PID on Warm IR Heater Warehouse

PID gesteuerter Halbleiterheizer