http://warm-ir-heater-warehouse.com/cs/tags/processing/ Recent content in Processing on Warm IR Heater Warehouse Hugo cs Fri, 19 Jun 2026 01:38:18 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/cs/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ Fri, 19 Jun 2026 01:38:18 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/cs/posts/sic-wafer-processing-heater-lamp/ <p><img src="http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Zahřívací lampa pro zpracování destiček SiC"></p> <p>V praxi se wafery z materiálu SiC nehodí k použití s běžnými topnými deskami. Pro procesy měkkého pečení, tvrdého pečení a následného vytvrzení je potřeba rychlé a rovnoměrné zahřátí, aniž by došlo k překročení teplotních limitů wafery. Pokud dojde ke změnám v rovnoměrnosti teploty, vznikají problémy jako např. nerovnosti na povrchu wafery či odchylky v jejím profilu. Tyto problémy se projeví až po hodinách měření.</p> <p><strong>Co je z technického hlediska důležité</strong><br> Používáme ohřívací lampu určenou k zpracování wafery z materiálu SiC, která využívá krátkovlnné infračervené záření k přenosu tepla přímo na povrch wafery – na vrstvu rezistu a samotný povrch wafery – aniž by se zahřívaly nosiče nebo stěny komory. Reakce lampy je rychlá – za méně než sekundu – a rovnoměrnost teploty na povrchu wafery zůstává v <a href="https://o-yate.com">rozmez</a>í ±0,1 °C v celé aktivní oblasti. V praxi to zajišťuje konzistentní kontrolu <a href="https://henruite.com">kritick</a>ých rozměrů a umožňuje dosažení opakovatelných výsledků po litografii.</p> http://warm-ir-heater-warehouse.com/cs/posts/solid-state-battery-processing-heater/ Thu, 18 Jun 2026 00:36:17 +0800 http://warm-ir-heater-warehouse.com/cs/posts/solid-state-battery-processing-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-warehouse.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="Ohřívač pro zpracování baterií s pevnými články"></p> <p>Při výrobě baterií s pevnými články je potřeba velmi přesná kontrola teploty – stejně jako u tolerancí samotných desek. I malá chyba při zahřívání může mít negativní dopad na kvalitu výsledku, stejně jako chladná oblast na podkladové desce. To zase ovlivňuje kvalitu výstupu a vznikají defekty na mezivrstvách. Vytvořili jsme tento ohřívač speciálně pro zpracování baterií s pevnými články, aby bylo možné udržet každý krok v rámci stanovených teplotních parametrů.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Využíváme krátkovlnné infračervené záření s rychle reagujícími kvartovými emitorami, které přenášejí teplo přímo do podkladové desky. V aktivní zóně zůstává rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C, přičemž opakovanost procesu zůstává pod ±0,5 °C. Systém funguje v prostředích s úrovní čistoty Class 1–100 bez vzniku částic, což ověřujeme přímo v provozu. Profily fotoresistů zůstávají konzistentní od počátečního zahřívání až po dokonalé vyschnutí, přičemž doba zahřívání je kontrolována s přesností na milisekundy – bez jakýchkoliv odchylek.</p>