On the fab floor, 300 mm’lik bir wafer, fotoresist profilini sabitleyen soft bake için sırada bekliyor. Eğer hotplate biraz bile kayarsa, hat genişliği kontrolü sapar ve tüm parti hurdaya çıkabilir. Bu değişkenliği ortadan kaldırmak için XRD ısıtma lambalarını geliştirdik.
Teknik olarak önemli olan
Lambalar, kısa dalga kızılötesi spektrumda kuvars halojen elemanlarla çalışır ve ısıyı doğrudan gerekli noktaya verir. Wafer üzerindeki sıcaklık homojenliği ±0.1°C’de tutulur ve setpoint tekrarlanabilirliği her çalışma döngüsünde sıkı kalır. Class 1–100 temiz oda ortamında bulunurlar ve çalışma sırasında partikül üretimi 0.1 partikül/cm³’ün altındadır. Çıkış gücü 5,000+ saat boyunca stabildir, yoğunluk sapması %5’in altındadır.
Litografi için neden işe yarar
Soft bake, çözücülerin uzaklaştırıldığı ve film gerilmesinin ayarlandığı aşamadır. Hard bake ise sertleşmiş profilin etch ve implant için kilitlenmesini sağlar. Bu lambalar hızlıca hedef sıcaklığa ulaşır, bake süresini kısaltır ve ısıl bütçeyi temiz tutar. Sonuç; tutarlı kritik boyut performansı, daha az revizyon ve wafer başına daha az enerji tüketimidir.
Temizlik sonrası wafer kurutulurken de aynı kontrol, yeniden yoğuşma ve su lekelerinin oluşmasını engeller—böylece verim korunur.
Dikkat edilmesi gerekenler
Ayak izi kompakt olup çoğu track ve coater modülüne uyum sağlar, ancak entegrasyon dikkat gerektirir. Optik yol açıklığını kontrol edin, güç kaynağının stabil olduğundan emin olun ve uçucu gazların tahliye yolunu doğrulayın.
Setpoint’e ulaşmak için kısa bir ısınma süresi vardır—bake tariflerinizi bu rampa etrafında planlayın. Hizalama ve kalibrasyon yapıldıktan sonra, ek karmaşıklık olmadan proses penceresi açılır.