Na linii produkcyjnej termiczny budżet pieca do utleniania określa standard jakości powłoki tlenkowej na całej powierzchni płytki krzemowej. Nawet niewielka odchylenie o 1°C może sprawić, że dobra partia produktów stanie się bezużyteczna. Stworzyliśmy specjalny element grzewczy do utleniania płytek krzemowych, który eliminuje takie wahania.
Co jest technicznie ważne Podstawą tego rozwiązania jest układ lamp kwarcowo-halogenowych, które dostarczają energię krótkich fal prosto do płytki krzemowej. Dzięki temu uzyskujemy jednolitość temperatury na poziomie ±0,1°C w całej strefie obróbki.
W procesach o rozdzielczości poniżej 10 nm nie można sobie pozwolić na żadne błędy. Jakość powłoki fotorezystu i efektywność procesu etchingu zależą bezpośrednio od precyzji procesu podgrzewania. Ten element zapewnia stabilność parametrów przez całą dobę, a także eliminuje powstawanie jakichkolwiek zanieczyszczeń – co zostało potwierdzone w warunkach czystej sali produkcyjnej klasy 1.
Dlaczego to rozwiązanie sprawdza się w produkcji To rozwiązanie skutecznie zmniejsza problemy związane z jakością produktów w procesach litografii i etchingu. Gdy profile temperatur są spójne i powtarzalne, grubość powłoki fotorezystu pozostaje jednakowa po procesie podgrzewania, dzięki czemu unika się problemów z powierzchnią płytki krzemowej podczas etchingu.
Efektem jest mniejsza liczba przeróbek oraz większa ilość płytek końcowych na jedną maskę. Ponadto uzyskuje się lepszą efektywność energetyczną, co zmniejsza koszty operacyjne bez obniżania szybkości produkcji.
Co należy uwzględnić przy planowaniu Ten element pasuje do istniejących platform pieców, ale wymaga specjalnego źródła zasilania oraz interfejsu sterującego, aby mógł funkcjonować prawidłowo. Profil krótkofalowy jest idealny do szybkiej obróbki cieplnej, ale precyzyjne ustawienie względem płytki krzemowej jest konieczne – błędne ustawienie może doprowadzić do lokalnych punktów o wysokiej temperaturze.
Przed uruchomieniem urządzenia przeprowadzamy testy, aby dopasować profil temperatury do specyficznych wymagań procesu produkcyjnego. Dzięki temu efektywność urządzenia jest stała na każdej partii produktów.