ফ্যাব ফ্লোরে, অক্সিডেশন ফার্নেসের তাপীয় ব্যবস্থাই সমগ্র ওয়েফারের গেট অক্সাইডের গুণমান নির্ধারণ করে। মাত্র ১°C এর পার্থক্যই একটি ভালো ওয়েফারকে নষ্ট হয়ে যাওয়ার কারণ হতে পারে। আমরা আমাদের ওয়েফার অক্সিডেশন হিটিং এলিমেন্টটিকে এই ধরনের পরিবর্তনগুলো দূর করার জন্য ডিজাইন করেছি।
প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?
ডিজাইনের কেন্দ্রবিন্দু হলো কোয়ার্টজ-হ্যালোজেন ল্যাম্প অ্যারে; এটা শর্ট-ওয়েভ শক্তিকে সরাসরি ওয়েফারে পাঠায়। এর ফলে প্রক্রিয়াকরণ অঞ্চলজুড়ে তাপীয় স্থিতিশীলতা ±0.1°C থাকে।
১০ন্যানোমিটারের কম আকারের ওয়েফারগুলোর ক্ষেত্রে এই বিষয়টি খুবই গুরুত্বপূর্ণ। ফটোরেসিস্টের ঘনত্ব ও ইথকিং প্রক্রিয়ার নির্ভুলতা নির্ভর করে সঠিক তাপীয় নিয়ন্ত্রণের উপর। এই এলিমেন্টটি ২৪/৭ ধরে ঐ স্থিতিশীলতা বজায় রাখে; এছাড়া এটা কোনো ধরনের কণা উৎপন্ন করে না—যা ক্লাস ১ ক্লিনরুম অবস্থায় নিশ্চিত করা হয়েছে।
কেন এটি উৎপাদনে কার্যকর?
এটি লিথোগ্রাফি ও ইথকিং প্রক্রিয়ায় উৎপন্ন হওয়া সমস্যাগুলোকে দূর করে। যখন তাপমাত্রা স্থিতিশীল ও পুনরাবৃত্তিযোগ্য থাকে, তখন হার্ড বেক প্রক্রিয়ার পরও ফটোরেসিস্টের ঘনত্ব স্থিতিশীল থাকে। ফলে ইথকিং প্রক্রিয়ায় কোনো সমস্যা দেখা দেয় না।
এর ফলে পুনরায় কাজ করার প্রয়োজন কমে যায়; আর প্রতি মাস্কে উৎপাদিত ওয়েফারের পরিমাণও বাড়ে। এছাড়া এটা শক্তি সাশ্রয়ীও; ফলে অপারেশনাল খরচ কমে যায়, আর উৎপাদন গতি কমে যায় না।
কী পরিকল্পনা করা দরকার?
এই এলিমেন্টটি বিদ্যমান ফার্নেসগুলোতে ব্যবহার করা যায়; কিন্তু এটি সঠিকভাবে কাজ করার জন্য একটি বিশেষ পাওয়ার সাপ্লাই ও নিয়ন্ত্রণ ইন্টারফেস প্রয়োজন। শর্ট-ওয়েভ প্রোফাইলটি দ্রুত তাপীয় প্রক্রিয়াকরণের জন্য আদর্শ; কিন্তু ওয়েফার বোটের সাথে এর সারিয়ে রাখা খুবই গুরুত্বপূর্ণ—অন্যথায় স্থানীয়ভাবে উচ্চ তাপমাত্রা সৃষ্টি হবে।
আমরা অন-সাইট ভ্যালিডেশন করে তাপীয় প্রোফাইলটিকে আপনার নির্দিষ্ট প্রক্রিয়ার সাথে মিলিয়ে নিই; ফলে প্রতিবারই একই ধরনের ফলাফল পাওয়া যায়।